[发明专利]共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物及共轭二烯系聚合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910166656.X 申请日: 2009-08-26
公开(公告)号: CN101659728A 公开(公告)日: 2010-03-03
发明(设计)人: 大岛真弓 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08F236/04 分类号: C08F236/04;C08F236/10;C08F230/08;C08C19/25;C08L15/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 共轭 二烯系 聚合物 组合 制造 方法
【权利要求书】:

1.共轭二烯系聚合物的制造方法,其特征在于,

具有下述工序A及工序B,

工序A:在烃溶剂中,在碱金属催化剂的作用下使含有共轭二烯和下 式(Ⅲ)所示的乙烯基化合物的单体聚合,得到下述聚合物的工序,所述聚 合物中在具有基于共轭二烯的单体单元和基于下式(Ⅲ)所示的乙烯基化合 物的单体单元的聚合物链的至少一端,具有来自该催化剂的碱金属,

式中,X4、X5及X6分别独立地表示下式(Ⅲa)所示的基团、烃基或取 代烃基,X4、X5及X6中的至少1个为下式(Ⅲa)所示的基团,

式中,R8及R9分别独立地表示碳原子数为1~6的烃基、碳原子数为 1~6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基,R8及R9也可以键合并与氮原 子一起形成环结构;

工序B:使由工序A得到的聚合物和下式(Ⅱ)所示的化合物反应的工 序,

式中,n表示1~10的整数,R3、R4及R5分别独立地表示碳原子数为 1~4的烃基或碳原子数为1~4的烃氧基,R3、R4及R5中的至少1个为烃 氧基,A为下式(Ⅱa)所示的基团,

式中,R6及R7分别独立地表示可以具有选自由氮原子、氧原子及硅 原子构成的原子组中的至少1种原子的碳原子数为1~6的基团,R6及R7可以键合并与氮原子一起形成环结构,R6及R7也可以是以双键键合于氮 的同一个基团。

2.如权利要求1所述的共轭二烯系聚合物的制造方法,其中,

式(Ⅲa)的R8及R9是碳原子数为1~6的烃基。

3.如权利要求1所述的共轭二烯系聚合物的制造方法,其中,

式(Ⅲ)的X4、X5及X6中的2个为式(Ⅲa)所示的基团。

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