[发明专利]共轭二烯系聚合物、共轭二烯系聚合物组合物及共轭二烯系聚合物的制造方法有效
申请号: | 200910166656.X | 申请日: | 2009-08-26 |
公开(公告)号: | CN101659728A | 公开(公告)日: | 2010-03-03 |
发明(设计)人: | 大岛真弓 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C08F236/04 | 分类号: | C08F236/04;C08F236/10;C08F230/08;C08C19/25;C08L15/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱 丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 共轭 二烯系 聚合物 组合 制造 方法 | ||
1.共轭二烯系聚合物的制造方法,其特征在于,
具有下述工序A及工序B,
工序A:在烃溶剂中,在碱金属催化剂的作用下使含有共轭二烯和下 式(Ⅲ)所示的乙烯基化合物的单体聚合,得到下述聚合物的工序,所述聚 合物中在具有基于共轭二烯的单体单元和基于下式(Ⅲ)所示的乙烯基化合 物的单体单元的聚合物链的至少一端,具有来自该催化剂的碱金属,
式中,X4、X5及X6分别独立地表示下式(Ⅲa)所示的基团、烃基或取 代烃基,X4、X5及X6中的至少1个为下式(Ⅲa)所示的基团,
式中,R8及R9分别独立地表示碳原子数为1~6的烃基、碳原子数为 1~6的取代烃基、甲硅烷基或取代甲硅烷基,R8及R9也可以键合并与氮原 子一起形成环结构;
工序B:使由工序A得到的聚合物和下式(Ⅱ)所示的化合物反应的工 序,
式中,n表示1~10的整数,R3、R4及R5分别独立地表示碳原子数为 1~4的烃基或碳原子数为1~4的烃氧基,R3、R4及R5中的至少1个为烃 氧基,A为下式(Ⅱa)所示的基团,
式中,R6及R7分别独立地表示可以具有选自由氮原子、氧原子及硅 原子构成的原子组中的至少1种原子的碳原子数为1~6的基团,R6及R7可以键合并与氮原子一起形成环结构,R6及R7也可以是以双键键合于氮 的同一个基团。
2.如权利要求1所述的共轭二烯系聚合物的制造方法,其中,
式(Ⅲa)的R8及R9是碳原子数为1~6的烃基。
3.如权利要求1所述的共轭二烯系聚合物的制造方法,其中,
式(Ⅲ)的X4、X5及X6中的2个为式(Ⅲa)所示的基团。
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