[发明专利]真空喷涂用于磁记录介质的润滑剂无效
申请号: | 200910166986.9 | 申请日: | 2009-07-10 |
公开(公告)号: | CN101656083A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | X·马;M·J·施蒂纳曼;杨季平;桂靖 | 申请(专利权)人: | 希捷科技有限公司 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 郭 辉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 喷涂 用于 记录 介质 润滑剂 | ||
1、一种制作磁记录介质的方法,包括:
在腔室中放置磁记录介质;
通过微给料阀向腔室中提供液体,其中该液体包含润滑剂和溶剂;
将腔室中的压力维持在低于该液体的蒸汽压,以便将至少一部分液体雾化成液滴,该液滴悬浮在腔室中的气体里;
通过液滴将润滑剂沉积在磁记录介质的表面上。
2、如权利要求1所述的方法,其中该微给料阀打开时间小于0.3微秒,并且,当打开时,放出约100纳升到约500微升的液体。
3、如权利要求1或2所述的方法,其中该液滴的尺寸为0.1到10微米。
4、如权利要求1-3任一个所述的方法,其中该润滑剂的Mw/Mn比例为1到1.6。
5、如权利要求1-4任一个所述的方法,其中该液体包含不同组成的多种润滑剂。
6、如权利要求1-5任一个所述的方法,其中该润滑剂包含至少一种氟化油。
7、如权利要求1-6任一个所述的方法,进一步包括在通过液滴将润滑剂沉积到磁记录介质上之前或期间,将磁记录介质暴露在UV中。
8、一种装置,用于进行权利要求1-8中任一项所述的方法。
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