[发明专利]半导体产品级别控制的方法与系统有效

专利信息
申请号: 200910167455.1 申请日: 2009-08-25
公开(公告)号: CN101872173A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 巫尚霖;施志昇;曾衍迪;王若飞;牟忠一;关欣 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G05B19/04 分类号: G05B19/04;H01L21/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;陈晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 产品 级别 控制 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种半导体产品级别控制的方法,应用于制造集成电路元件,其中一产品级别与一集成电路所呈现的一种或多种特性有关,上述方法包括:

对多个晶片批次,执行多个工艺;

决定一所需产品级别数量、一现有产品级别数量与一生产中产品级别数量;

将已决定的上述所需产品级别数量,与已决定的上述现有产品级别数量以及已决定的上述预估生产中产品级别数量作比较;以及

若已决定的上述现有产品级别数量与已决定的上述预估生产中产品级别数量无法满足已决定的上述所需产品级别数量,则修正上述晶片批次的上述工艺中的至少一者。

2.如权利要求1所述的方法,其中上述所需产品级别数量为与客户需求相关的一第一产品级别比例,上述现有产品级别数量为与已完成晶片批次相关的一第二产品级别比例,以及上述生产中产品级别数量为与制造中晶片批次相关的一第三产品级别比例。

3.如权利要求1所述的方法,其中决定上述生产中产品级别数量的歩骤包括:根据晶片电性测试、机台组合与产线量测,决定一预估产品级别数量。

4.如权利要求1所述的方法,其中决定上述生产中产品级别数量的歩骤包括:预估每一后段工艺晶片批次的产品级别数量,以及预估每一前段工艺晶片批次的预估产品级别数量。

5.如权利要求1所述的方法,其中将已决定的上述所需产品级别数量,与已决定的上述现有产品级别数量以及已决定的上述生产中产品级别数量作比较的歩骤包括执行一差异分析。

6.如权利要求5所述的方法,其中执行上述差异分析的歩骤包括:

产生包括一产品级别报告的一半成品报告;

根据包括上述产品级别报告的上述半成品报告,计算上述每一晶片批次的一产品级别数量;

将上述每一晶片批次的上述产品级别数量与上述所需产品级别数量作比较;

计算上述半成品的一所需周期时间;以及

根据上述半成品报告的一所需周期时间,决定一产品输入输出计划。

7.如权利要求1所述的方法,其中修正上述晶片批次的上述工艺中的至少一者的歩骤包括修正一生产时程、修正一(半导体)元件电性目标值、修正一工艺变因、修正一派货机台组合或上述组合的一者。

8.如权利要求1所述的方法,还包括若已决定的现有产品级别数量与已决定的上述生产中产品级别数量无法满足已决定的上述所需产品级别数量,则指派一晶片批次数量,用以起始制造流程。

9.如权利要求8所述的方法,其中指派上述晶片批次数量,用以起始制造流程的歩骤包括:当下货生产时,决定一下货生产产品级别预估数量。

10.一种制造半导体产品的方法,包括:

决定包括一所需交货日期的一所需产品级别数量与一可交货产品级别数量;

若上述可交货产品级别数量与上述所需产品级别数量之间有一第一差异存在,则计算每一生产中晶片批次的一产品级别数量;

指派上述生产中晶片批次的至少一者出货,用以消弭上述第一差异;

决定已指派的上述生产中晶片批次的一所需周期时间;以及

若上述所需周期时间无法满足上述所需交货日期,则修正已指派的上述生产中晶片批次的一工艺参数。

11.如权利要求10所述的方法,其中若上述可交货产品级别数量与上述所需产品级别数量之间有上述第一差异存在,则计算上述每一生产中晶片批次的上述产品级别数量的歩骤包括:

计算每一后段工艺晶片批次的一第一产品级别数量;

指派上述后段工艺晶片批次的至少一者出货,用以消弭上述第一差异;

若上述可交货产品级别数量和已指派的上述后段工艺晶片批次,与必需产品级别数量的间有一第二差异存在,则计算每一前段工艺晶片批次的一第二产品级别数量;以及

指派上述前段工艺晶片批次的至少一者出货,用以消弭上述第二差异。

12.如权利要求11所述的方法,其中指派上述前段工艺晶片批次的至少一者出货,用以消弭上述第二差异的歩骤包括对已指派(出货)的上述前段工艺晶片批次,执行一产线产品级别比例调整流程。

13.如权利要求12所述的方法,其中执行上述产线产品级别比例调整流程的歩骤包括修改已指派(出货)的上述前段工艺晶片批次的一(半导体)元件电性目标值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910167455.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top