[发明专利]基板载置机构、基板处理装置和基板载置机构的控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及载置平板显示器(FPD)用玻璃基板等具有可挠性的被 处理基板的基板载置机构、具有该基板载置机构的基板处理装置、基 板载置机构的控制方法和使计算机实施该控制方法的计算机能够读取 的存储介质。

背景技术

在FPD的制造工艺中，对作为被处理基板的FPD用的玻璃基板， 实施蚀刻、溅射、化学气相生长(CVD)等各种处理。这样的处理通 常在将玻璃基板载置在设置于腔室内的载置台上的状态下进行，相对 于载置台的基板的装载和卸载，一般由设置为相对于载置台的载置面 能够突出没入的多个升降销(升降器)进行。在装载基板时，使升降 销上升，从载置台的载置面突出，将由搬送臂等搬送机构搬送的玻璃 基板转移至升降销上，之后使升降销下降，将玻璃基板载置在载置台 的载置面上。此外，卸载基板时，使升降销上升，使玻璃基板离开载 置台的载置面之后，将升降销上的玻璃基板移载至搬送臂等搬送机构。

近年来，FPD向着薄型化或大型化发展，甚至出现了厚度为 1.1mm、0.7mm、0.4mm以下的薄玻璃基板、或一边超过2m的巨大的 玻璃基板。

这样薄或巨大的玻璃基板容易发生弯曲，仅靠升降销支承玻璃基 板的外周边缘部，难以可靠地进行支承。

于是，为了能够可靠地支承玻璃基板，在载置台的中央部也设置 升降销(例如参照专利文献1)。

专利文献1日本特开2002-246450号公报

发明内容

但是，载置台在各种处理时作为下部电极起作用。因此，如果在 载置台的中央部设置升降销，则设置有该升降销的位置成为下部电极 上的特殊点，可能会妨碍对被处理基板进行均匀的处理。

本发明的目的在于，提供能够可靠地支承被处理基板且能够对被 处理基板进行均匀的处理的基板载置机构、具有该基板载置机构的基 板处理装置和基板载置机构的控制方法。

为了达成上述目的，本发明的第一方面的基板载置机构包括：载 置被处理基板的载置台；在上述载置台的内侧自由突出没入地被设置、 且支承上述被处理基板的外周边缘部的第一升降器；和在上述载置台 的外侧能够在上述载置台的载置面的上方移动地被设置，且支承比上 述第一升降器支承上述被处理基板的位置更靠上述被处理基板的中央 部分的第二升降器，在使上述被处理基板的背面与上述载置面上部分 地抵接的状态下，在上述第一升降器与上述第二升降器间进行上述被 处理基板的交接。

此外，本发明的第二方面的基板处理装置包括：对被处理基板实 施处理的腔室；和设置在上述腔室的内部，载置上述被处理基板的基 板载置机构，其中，作为上述基板载置机构，使用上述第一方式的基 板载置机构。

此外，本发明的第三方面提供一种基板载置机构的控制方法，该 基板载置机构包括：载置被处理基板的载置台；在上述载置台的内侧 自由突出没入地被设置、支承上述被处理基板的外周边缘部的第一升 降器；和在上述载置台的外侧能够在上述载置台的载置面的上方移动 地被设置，且支承比上述第一升降器支承上述被处理基板的位置更靠 上述被处理基板的中央部分的第二升降器，该基板载置机构的控制方 法包括：上述第二升降器从搬送来上述被处理基板的搬送机构在上述 载置面的上方接收上述被处理基板，使上述被接收的被处理基板的背 面与上述载置面上部分地抵接的工序；在上述被处理基板的背面与上 述载置面上部分地抵接的状态下，上述第一升降器举起上述被处理基 板的外周边缘部，使上述被处理基板从上述第二升降器分离的工序； 在上述被处理基板已从上述第二升降器分离的状态下，使上述第二升 降器从上述载置面的上方退避的工序；和在上述第二升降器已从上述 载置面的上方退避的状态下，上述第一升降器将上述被处理基板载置 在上述载置面上的工序。

根据本发明，能够提供能够可靠地支承被处理基板且能够对被处 理基板进行均匀的处理的基板载置机构、具有该基板载置机构的基板 处理装置和基板载置机构的控制方法。

附图说明

图1A是概略表示具有本发明的第一实施方式的基板载置机构的 基板处理装置的水平截面图，图1B是沿着图1A中的1B-1B线的截面 图。

图2A～图2C是表示第二升降器的例子的立体图。

图3A～图3G是表示将基板载置在基座上的动作例的图。

图4A～图4G是表示将基板从基座上举起的动作例的图。