[发明专利]等离子显示屏用MgO保护层的制备方法以及包含其的彩色等离子体显示屏及彩色等离子体电视无效
申请号: | 200910171688.9 | 申请日: | 2009-09-07 |
公开(公告)号: | CN101719443A | 公开(公告)日: | 2010-06-02 |
发明(设计)人: | 闫梁臣 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | H01J9/02 | 分类号: | H01J9/02;H01J17/04;H01J17/49;H04N5/64 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张英 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 显示屏 mgo 保护层 制备 方法 以及 包含 彩色 等离子体 电视 | ||
技术领域
本发明属于气体辉光放电技术领域,具体涉及一种等离子显示屏用MgO保护层的制备方法,以及包含该等离子显示屏用MgO保护层的彩色等离子体显示屏及彩色等离子体电视。
背景技术
目前,彩色等离子体显示屏(PDP)前基板上的介质保护层一般为MgO薄膜,该MgO保护层不仅是透明的以允许可见光轻易地透过其传送,而且具有极好的介电保护层和二次电子发射特性。其常规的制备方法是在富氧气氛中采用电子束蒸发MgO颗粒的方法制备。在中国发明专利申请号为200410102361.3中公开了一种具有改进的保护层等离子显示板,其中还包括MgO保护层,其形成为覆盖第一基板上的介电层,并通过混合(111)平面和(110)平面来产生MgO保护层的结晶取向平面,并根据MgO保护层的晶粒尺寸设置(111)平面和(110)平面混合比。其中采用了电子束淀积方法。
由目前公开的方法制备的MgO薄膜具有表面不够致密,比较疏松,粗糙有孔洞,易于吸附二氧化碳和水蒸气等气体的缺点,从而降低MgO薄膜的电气性能。
为此,需要提供一种能够克服上述缺陷并易于实现的等离子显示屏用MgO保护层的制备方法。
发明内容
本发明的目的在于提供了一种克服上述现有技术的缺点并易于实现的等离子显示屏用MgO保护层的制备方法。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:在制备有ITO透明电极、BUS电极和介质层的彩色等离子体显示屏的玻璃基板上采用离子束辅助沉积的方法在富氧气氛中在介质层上蒸镀厚度为600-800nm的MgO薄膜保护层。
为此,本发明的一个方面提供了一种在制备有ITO透明电极、BUS电极和介质层的彩色等离子体显示屏的玻璃基板上形成MgO薄膜保护层的方法,其特征在于:在富氧气氛中,利用电子束扫描盛有MgO颗粒的容器,同时采用离子束发生装置向所述玻璃基板发射离子束,所属离子束轰击在所述玻璃基板的表面上形成的MgO薄膜,最终在所述介质层上蒸镀厚度为600~800nm的MgO薄膜保护层。
优选的,其中所述盛有MgO颗粒的容器为坩埚。
优选的,其中所述富氧气氛由在1.0×10-5Pa高真空下在蒸发室内通入纯度为99.999%的纯氧气而形成,其中所述蒸发室内通氧气时的真空度为(1.0-2.0)×10-2Pa。
更优选地,其中所述富氧气氛由在1.0×10-5Pa高真空下在蒸发室内通入纯度为99.999%的纯氧气而形成,其中所述蒸发室内通氧气时的真空度为(1.0-2.0)×10-2Pa。
优选的,其中所述MgO颗粒选自单晶MgO材料、多晶MgO材料和掺杂MgO材料。
更优选的,其中所述MgO颗粒为单晶MgO材料。
优选的,其中所述MgO薄膜保护层中的MgO为选自(220)、(111)晶型或上述晶型的组合的柱状MgO,更优选的是MgO为(220)晶型的柱状MgO。
优选的,其中所述MgO薄膜保护层中的MgO平均粒径为50~150nm的柱状晶型。
优选的,其中所述电子束的能量范围为:电子束电流400~450mA、电子束电压为-10kV~-20kV,所述离子束的能量范围为:离子束能量为0.1~0.5KeV,连续可调,且束流强度为10~120mA。
更优选的,其中所述电子束的能量范围为:电子束电流400~450mA、电子束电压为-13kV~-15kV。
本发明的另一个方面提供了一种彩色等离子体显示屏,其特征在于:包括ITO透明电极、BUS电极、介质层以及上述方法获得的MgO薄膜保护层。
本发明的又一个方面提供了一种彩色等离子体电视,其特征在于:包括上述包括由本发明的上述方法获得的MgO薄膜保护层的显示屏。
由本发明的方法获得的保护层由MgO薄膜构成。该保护层在PDP前基板中,一方面保护电极和介质层免受惰性气体辉光放电产生的等离子体的轰击,从而提高PDP的使用寿命;另一方面可以降低放电延迟时间,并且提供一定的受激发的二次电子,从而降低着火电压。
附图说明
图1是本发明的形成MgO薄膜保护层的示例性图示,其中10为MgO蒸发装置,20为离子束,30为玻璃基板,40为MgO颗粒,50为蒸发的MgO蒸汽,其中玻璃基板30上已经制备有ITO透明电极、BUS电极和介质层,在图中未示出。
图2是未采用本发明的离子束辅助技术获得的MgO薄膜保护层的扫描电镜(SEM)照片。
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