[发明专利]光波导路装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 200910171862.X 申请日: 2009-09-11
公开(公告)号: CN101672950A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 藤泽润一;清水裕介 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 波导 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光波导路装置的制造方法,该光波导路装置的制造方法包括:在成为粗糙面状的基板的正面形成下敷层的工序;在该下敷层的正面形成芯形成用感光性树脂层的工序;对该感光性树脂层照射照射线,曝光成规定的图案,将该曝光部分形成为芯的工序,其特征在于,在上述芯形成工序中,对上述感光性树脂层照射的照射线是透过该感光性树脂层而到达上述基板的粗糙面状的正面、并在此进行反射的照射线,上述基板由吸收上述照射线的材料构成。

2.根据权利要求1所述的光波导路装置的制造方法,吸收上述照射线的材料以聚甲基丙烯酸甲酯为主成分。

3.根据权利要求1或2所述的光波导路装置的制造方法,上述基板正面的算术平均粗糙度(Ra)是0.095μm以上。

4.根据权利要求1或2所述的光波导路装置的制造方法,上述照射线是紫外线。

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