[发明专利]光波导路装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 200910171862.X 申请日: 2009-09-11
公开(公告)号: CN101672950A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 藤泽润一;清水裕介 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B6/138 分类号: G02B6/138
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 波导 装置 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及光通讯、光信息处理、其它一般光学中广泛使用的光波导路装置的制造方法。

背景技术

光波导路装置的光波导路通常是在下敷层的正面将作为光通路的芯形成为规定的图案,以覆盖该芯的状态形成上敷层而构成的。这样的光波导路通常形成在金属制基板等的基板正面,与该基板一起作为光波导路来被制造。

制造这样的光波导路的以往的制造方法如下:首先,如图3的(a)所示,在基板10的正面形成下敷层2。接着,如图3的(b)所示,在下敷层2的正面涂敷芯形成用的感光性树脂,形成感光性树脂层3A。接着,隔着形成有与芯的图案相对应的开口图案的曝光掩模M对上述感光性树脂层3A照射照射线L,使该照射线L通过上述开口图案的开口到达上述感光性树脂层3A,对该感光性树脂层3A的部分进行曝光。上述照射线L与上述感光性树脂层3A垂直地对该感光性树脂层3A进行照射,利用该照射在曝光部分进行光反应,进行固化。然后,通过使用显影液进行显影,如图3的(c)所示,使未曝光部分溶解而将其去除,残留的曝光部分形成规定图案的芯3。通常该芯3的截面形状形成四边形状。之后,如图3的(d)所示,覆盖该芯3地在上述下敷层2的正面形成上敷层4。这样,在上述基板10的正面形成光波导路W(例如参照专利文献1)。

专利文献1:日本特开2004-341454号公报

可是,在这样的以往的方法中,如图4的(a)、(b)所示,根据情况有时芯30的侧面31形成为粗糙面。而且,在具有这样的芯30的光波导路中,产生在芯30内传播的光的传播损失大这样的问题。另外,图4的(b)是根据用电子显微镜将以图4的(a)的圆圈部C圈起来的芯30放大700倍的照片而画成的立体图。这样,通过用电子显微镜放大700倍,能够确认芯30的侧面31形成为粗糙面。

因此,本发明人为了研究芯30的侧面31形成为粗糙面的原因,进行了反复的研究。在该过程中,如图4的(a)所示,弄清了上述芯30的侧面31的粗糙面化是在作为上述基板10[参照图3的(a)~(d)]使用由SUS箔等金属箔等构成的金属制基板11的情况下而产生的。然后,进一步反复研究的结果可知,如图4的(a)所示,由上述金属箔等构成的金属制基板11的正面(和背面)形成为粗糙面。因此,在上述芯形成工序中,如图5所示,用于曝光的照射线L透过了芯形成用感光性树脂层3A和下敷层2后,在上述金属制基板11的粗糙面状的正面,因该粗糙面而产生漫反射。而且,该漫反射的照射线L自下方沿斜向上的方向透过上述下敷层2,在芯形成用感光性树脂层3A内的芯形成区域S中,自斜向下方对芯30的形成图案的边界面(成为侧面31的面)进行曝光。该自斜向下方的曝光因为是通过漫反射而进行的,所以不均匀。因此,判断出是因自该斜向下方进行曝光的原因而造成在芯30的成为侧面31的面上不需要的光反应不均匀地进行,随着芯30的宽度变宽,芯30的侧面31形成为粗糙面。即,在芯30的成为侧面31的面上,由于上述照射线L的漫反射,曝光度的大小不同,或是未曝光部分与曝光部分产生混杂。然后,在后面的显影工序中,上述芯30的成为侧面31的面的、曝光度小的部分、未曝光的部分被溶解而被去除,曝光度大的部分、曝光部分残留下来。因此,芯30的侧面31形成粗糙面。

发明内容

本发明是鉴于这样的事情而做成的,其目的在于提供一种即使在形成粗糙面状的基板的正面形成光波导路,也能抑制该光波导路的芯侧面的粗糙面化的光波导路装置的制造方法。

为了达到上述目的,本发明的光波导路装置的制造方法包括:在成为粗糙面状的基板的正面形成下敷层的工序;在该下敷层的正面形成芯形成用感光性树脂层的工序;对该感光性树脂层照射照射线,曝光成规定的图案,将该曝光部分形成芯的工序,其中,在上述芯形成工序中,对上述感光性树脂层照射的照射线是透过该感光性树脂层而到达上述基板的粗糙面状的正面、并在此进行反射的照射线,上述基板由吸收上述照射线的材料构成。

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