[发明专利]硅基液晶面板及其制作方法

权利要求书

1.一种硅基液晶面板，包含：

基底，该基底上设有至少一金属氧化物半导体晶体管；

像素电极阵列设于该基底上；

多个具有至少两种不同色彩的彩色滤光片设于该像素电极阵列上，相邻的该多个彩色滤光片间均具有间隔，且至少两个彩色滤光片为非共平面；

无机薄膜设于该多个彩色滤光片上及该多个间隔内；以及

有机薄膜全面性设于该无机薄膜表面。

2.如权利要求1所述的硅基液晶面板，其中该多个彩色滤光片包含红色滤光片、绿色滤光片或蓝色滤光片。

3.如权利要求1所述的硅基液晶面板，其中该无机薄膜是选自旋涂式玻璃薄膜、场氧化旋涂式玻璃薄膜、等离子体增强氧化层及四乙氧基硅烷。

4.如权利要求1所述的硅基液晶面板，其中该有机薄膜是选自平坦化光致抗蚀剂及缓冲层式光致抗蚀剂。

5.如权利要求1所述的硅基液晶面板，其中该有机薄膜包含负型光致抗蚀剂。

6.如权利要求1所述的硅基液晶面板，其中该无机薄膜的厚度是介于2100埃至3100埃。

7.如权利要求1所述的硅基液晶面板，其中该有机薄膜的厚度是介于10000埃至12000埃。

8.一种制作硅基液晶面板的方法，包含：

提供基底，该基底上设有至少一金属氧化物半导体晶体管；

形成像素电极阵列于该基底上；

形成多个具有至少两种不同色彩的彩色滤光片于该像素电极阵列上，相邻的该多个彩色滤光片之间均具有间隔，且至少两个彩色滤光片为非共平面；

形成无机薄膜于该多个彩色滤光片上及该多个间隔内；以及

形成有机薄膜于该无机薄膜表面。

9.如权利要求8所述的方法，其中该多个彩色滤光片包含红色滤光片、绿色滤光片或蓝色滤光片。

10.如权利要求8所述的方法，另包含利用旋转涂布工艺来形成该无机薄膜。

11.如权利要求8所述的方法，其中该无机薄膜是选自旋涂式玻璃薄膜、场氧化旋涂式玻璃薄膜、等离子体增强氧化层及四乙氧基硅烷。

12.如权利要求8所述的方法，其中该有机薄膜是选自平坦化光致抗蚀剂及缓冲层式光致抗蚀剂。

13.如权利要求8所述的方法，其中该有机薄膜包含负型光致抗蚀剂。

14.如权利要求8所述的方法，其中该无机薄膜的厚度是介于2100埃至3100埃。

15.如权利要求8所述的方法，其中该有机薄膜的厚度是介于10000埃至12000埃。