[发明专利]硅基液晶面板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种硅基液晶显示面板，尤指一种在彩色滤光阵列上依序设置无机薄膜与有机薄膜的硅基液晶显示面板。

背景技术

随着数字时代的来临，数字信号播送形式与显示技术的改变，使近年来各种不同于传统阴极射线管(cathode ray tube，CRT)显示器的各类平面显示器，如液晶显示器(liquid crystal display，LCD)、场发射显示器(field emissiondisplay，FED)、有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)显示器以及等离子体显示器(plasma display panel，PDP)等广泛地被应用于日常生活上。

除此之外，由于微型显示器(micro-display)可利用光学方式将影像放大至超过上述平面显示器的尺寸，故更符合超大尺寸显示的需求。且微型显示器可应用于各类型的显示器，如LCD或OLED显示器，举例来说，应用于LCD的微型显示器即称为微型液晶面板。微型显示器因其成像方式的不同可概分为穿透式及反射式两大类。穿透式液晶微型显式面板主要是建构于玻璃基板上，其运作时光线透过显示面板；反射式液晶微型面板则建构于硅基板上，因此亦称为硅基液晶(liquid crystal on silicon，LCoS)面板。LCoS面板是利用硅晶片作为基板，并以金属氧化物半导体晶体管(MOS transistor)取代薄膜晶体管，且与一般LCD面板利用透明导电材料作为像素电极不同，LCoS面板以金属材料作为像素电极，通过光线反射的原理成像，因而称之为反射式液晶微型面板。

不论是穿透式或反射式的微型显示器，面板上都需要有彩色滤光阵列(color filter array)的制作与设置。已知制作彩色滤光阵列的方式主要先制作出用来投射不同色彩的彩色滤光片(color filters)，然后再覆盖一层由四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane，TEOS)所构成的材料层在彩色滤光片上，并以化学机械抛光(chemical mechanical polishing，CMP)工艺对材料层进行平坦化步骤。然而，利用此化学机械抛光对彩色滤光片进行的平坦化步骤仍有高低落差的问题，使制作出的微型显示器无法呈现出完美的显示画面，例如在显示画面上产生色偏(discoloration)与牛顿环(Newton ring)等现象。

发明内容

因此本发明是提供一种硅基液晶面板及其制作方法，以解决上述现今面板所产生的问题。

本发明优选实施例是披露一种硅基液晶(LCoS)面板，其包含基底，基底上设有至少一金属氧化物半导体晶体管；像素电极阵列设于基底上；多个具有至少两种不同色彩的彩色滤光片(color filter)设于像素电极阵列上，相邻的该多个彩色滤光片间均具有间隔(gap)，且至少两个彩色滤光片为非共平面；无机薄膜设于彩色滤光片上及该多个间隔内；以及有机薄膜全面性设于无机薄膜表面。

本发明另一实施例是披露一种制作硅基液晶面板的方法，包含有下列步骤。首先提供基底，且基底上设有至少一金属氧化物半导体晶体管，然后形成像素电极与多个具有至少两种不同色彩的彩色滤光片于基底上，相邻的该多个彩色滤光片之间均具有间隔，且至少两个彩色滤光片为非共平面。接着形成无机薄膜于彩色滤光片上及该多个间隔内，并全面性形成有机薄膜于无机薄膜表面。

附图说明

图1至图4为本发明优选实施例制作硅基液晶面板的示意图。

附图标记说明

12  半导体基底      14  像素电极层

16  反射层          18  彩色滤光片

20  彩色滤光阵列    22  间隔

24  无机薄膜        26  有机薄膜

28  下配向膜        30  液晶层

32  上基板          34  基板

36  透明导电层      38  上配向膜

40  像素电极        42  金属氧化物半导体晶体管元件

44  内层介电层

具体实施方式

请参照图1至图4，图1至图4为本发明优选实施例制作硅基液晶面板的示意图。如图1所示，首先提供半导体基底12，例如硅基底，