[发明专利]用于在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法和装置

权利要求书

1.一种用于在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法，包括：

开始计量参数；

判断计量的参数是否达到预先设置的监控间隔；

如果计量的参数达到预先设置的监控间隔，则确定对工艺步骤处理后的晶圆进行在线缺陷扫描；否则确定对所述工艺步骤处理后的晶圆进行下一工艺步骤处理。

2.如权利要求1所述的在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法，其特征在于，在计量的参数没有达到预先设置的监控间隔的情况下，该方法进一步包括：

判断所述工艺步骤处理后的晶圆的批次尾号是否等于预先设置的需采样的晶圆批次尾号；

如果是，则确定对该晶圆进行在线缺陷扫描，并且重新开始计量参数；否则确定对所述工艺步骤处理后的晶圆进行下一工艺步骤处理。

3.如权利要求1或2所述的在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法，其特征在于，在判断计量的参数是否达到预先设置的监控间隔之前进一步包括：

判断所述工艺步骤处理后的晶圆是否是预先设置的必须进行在线缺陷扫描的晶圆批次；

如果是，则确定对该晶圆进行在线缺陷扫描；否则判断计量的参数是否达到预先设置的监控间隔。

4.如权利要求1或2所述的在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法，其特征在于，在判断计量的参数是否达到预先设置的监控间隔之前进一步包括：

判断所述工艺步骤处理后的晶圆是否是预先设置的不需要进行在线缺陷扫描的晶圆批次；

如果是，则确定对所述工艺步骤处理后的晶圆进行下一工艺步骤处理；否则判断计量的参数是否达到预先设置的监控间隔。

5.如权利要求1或2所述的在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法，其特征在于，所述计量的参数是计时时间，所述预先设置的监控间隔是预先设置的时间间隔。

6.如权利要求1或2所述的在线缺陷扫描的动态统计采样控制方法，其特征在于，所述计量的参数是晶圆批数，所述预先设置的监控间隔是预先设置的晶圆批数。

7.一种用于在线缺陷扫描的动态统计采样控制装置，包括：

计量器，用于计量参数；

存储器，用于存储预先设置的监控间隔；

第一判断模块，用于判断所述计量器所计量的参数是否达到所述预先设置的监控间隔；

确定模块，用于在所述第一判断模块确定计量器所计量的参数达到预先设置的监控间隔的情况下，确定对工艺步骤处理后的晶圆进行在线缺陷扫描；并在所述第一判断模块确定计量器所计量的参数没有达到预先设置的监控间隔的情况下，确定对对所述工艺步骤处理后的晶圆进行下一工艺步骤处理。

8.如权利要求7所述的用于在线缺陷扫描的动态统计采样控制装置，其特征在于，所述存储器进一步用于存储预先设置的需采样的晶圆批次尾号；

所述动态统计采样装置进一步包括第二判断模块，用于在所述第一判断模块确定所述计量器所计量的参数没有达到预先设置的监控间隔的情况下，判断所述工艺步骤处理后的晶圆的批次尾号是否等于预先设置的需采样的晶圆批次尾号；

所述确定模块进一步用于：在所述第二判断模块确定所述工艺步骤处理后的晶圆的批次尾号等于预先设置的需采样的晶圆批次尾号的情况下，确定对该晶圆进行在线缺陷扫描，并对所述计量器进行复位，使所述计量器重新开始计量参数；在所述第二判断模块确定所述工艺步骤处理后的晶圆的批次尾号不等于预先设置的需采样的晶圆批次尾号的情况下，确定对所述工艺步骤处理后的晶圆进行下一工艺步骤处理。

9.如权利要求7或8所述的用于在线缺陷扫描的动态统计采样控制装置，其特征在于，所述存储器进一步用于存储预先设置的必须进行在线缺陷扫描的晶圆批次；

所述动态统计采样装置进一步包括第三判断模块，用于判断所述工艺步骤处理后的晶圆是否是预先设置的必须进行在线缺陷扫描的晶圆批次；

所述确定模块进一步用于：在所述第三判断模块确定所述工艺步骤处理后的晶圆是预先设置的必须进行在线缺陷扫描的晶圆批次的情况下，确定对该晶圆进行在线缺陷扫描；并在所述第三判断模块确定所述工艺步骤处理后的晶圆不是预先设置的必须进行在线缺陷扫描的晶圆批次的情况下，给所述第一判断模块发送信号，使所述第一判断模块判断计量器所计量的参数是否达到预先设置的监控间隔。