[发明专利]分析半导体产品的基准良率值的方法有效
申请号: | 200910196115.1 | 申请日: | 2009-09-22 |
公开(公告)号: | CN102024672A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 刘喆秋;王立;梅杰 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;G06F17/00;G01R31/26 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分析 半导体 产品 基准 良率值 方法 | ||
技术领域
本发明设计半导体产品测试领域,具体的,涉及在半导体产品测试中,分析半导体产品的基准良率值的方法。
背景技术
在集成电路产业中,良率是表征半导体企业产品设计、制造、封装和测试能力的关键性指标。提升良率,是提高企业盈利能力的重要手段之一。因此,在半导体行业中,尤其是晶圆代工企业里,良率管理是个极其重要的命题,有专门的部门负责整合整个公司的资源、人力来推动良率提升。
良率,又称之为成品率,是指在一批被测试产品中,合格品数目所占被测产品总数之百分比。所述良率的计算公式如下:
良率(Yield)=合格品数目(Pass devices count)/被测试品总数(Total devices count)*100% (1)
由公式(1)可以看出,当被测试品总数一定的情况下,良率的高低直接影响最终合格品出货数量。快速、有效地提高良率可显著达到降低成本,提高效率,提升企业品质形象之目的。
目前而言,晶圆代工企业中良率提升的流程通常为:a)收集数据、b)良率统计、c)失效分析、d)改善及防堵措施、e)良率提升。其中失效分析和改善及防堵措施两项,往往是良率团队关注的焦点。失效分析是用来提供给工艺和制造部门哪里出了问题,出了什么样的问题。然后工艺和制造部门针对问题所在,采取相应的改善及防堵措施。
通常,良率统计可按测试类型、统计周期、良率分布等几种类型分类。每种类型又有如下类型:
按测试类型分为:晶圆测试良率(Wafer sort yield/Chip probe yield)、终测良率(Final test yield)等;
按统计周期可分为:日平均良率(Daily yield)、周平均良率(Weekly yield)、月平均良率(Monthly yield)、季度平均良率(Quarterly yield)以及年平均良率(Annual yield)等;
按良率分布可分为:平均良率(Average yield)、正常晶圆良率(normal yield)。
按良率分布分类中,平均良率(Average yield),表征所有良率数据的平均值;正常晶圆良率(normal yield),表征去除低良率数据后的平均值。
图1所示为现有的典型晶圆良率趋势图。图1给出了某产品莱一周期的良率分布趋势图。图1中,横轴代表晶圆的标示代码,每个晶圆的标示代码一般由两部分决定,一是该晶圆所在的批次(LOT ID),二是该晶圆在本批次中的编号。因为晶圆的标示代码并不影响良率,为方便起见,晶圆的标示代码在图1中只用阿拉伯编号标注,将横轴按一定长度为周期将横轴分份,每个长度代表一定数量的晶圆,直到所有晶圆都被标示为止。纵轴表示晶圆的良率值百分比。
计算平均良率时,将所有晶圆的良率值相加并计算取平均值,此平均值即为该产品的平均良率,具体的,对图1所示的产品该周的平均良率为94.1%。
而该周的正常良率的定义应为:去掉低良率值的晶圆,再对剩余晶圆的良率值取平均值。根据经验以85%为正常良率下限标准,则去掉良率值低于85%的那部分晶圆,对剩余晶圆的良率值取平均,所得正常良率为94.4%.。
现有方法的不足之处为:1)标准定义模糊,2)主观性过强,不能准确反应正常的良率值。
可见,虽然现有的良率提升的模式行之有效,然而,仔细分析,依然有提升空间。在“良率统计”环节一直被业界较为忽视,其实此环节相当重要,因为“失效分析”和“改善及防堵措施”能够有效分析问题、解决问题进而提升良率的前提是,找准正确的分析对象,也就是良率损失所在。可现实而言,因为良率数据统计结果表面看来比较直观,所以在此领域分析较为简单。问题在于,良率工程师在良率统计时,往往根据对制程和产品的了解,以经验来设定下限,定义正常良率。如此即会造成,不同时间、不同工程师所报告出来的问题不一样。换言之,主观性很强。这样对于良率团队准确把握良率,抓住问题而言,隐含了较大风险。
发明内容
为解决现有的半导体产品的良率分析方法主观性强、与实际良率相差较大的问题,本发明提供分析半导体产品的基准良率值的方法。
本发明分析半导体产品的基准良率值的方法,包括:
选取一定数量的所述半导体产品,测量每个所述半导体产品的良率值并将其存入第一存储单元;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造