[发明专利]焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法无效

专利信息
申请号: 200910196441.2 申请日: 2009-09-25
公开(公告)号: CN101665982A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 冯鹤;丁栋舟;任国浩;潘尚可;陆晟;张卫东 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B29/34 分类号: C30B29/34;C30B13/00
代理公司: 上海光华专利事务所 代理人: 许亦琳;余明伟
地址: 200050上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 硅酸 闪烁 浮区法 生长 方法
【权利要求书】:

1.一种焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,包括如下步骤:

1)配料:将原料按照晶体组成比例配料后混合均匀制得混合料;其中,所述原料为 Y2O3和SiO2,且Y2O3与SiO2的摩尔比例为1∶2~2.5;或者所述原料为Y2O3、RE元素的 氧化物和SiO2,其中RE选自稀土元素Ce、Eu、Sc、Er、La、Ho、Dy、Lu和Gd中的一 种或多种,且Y2O3、RE元素的氧化物与SiO2的摩尔比例为0.95~0.999∶0.001~0.05∶2~2.5;

2)预烧结:将步骤1)中制得的混合料压成料棒后在不高于1200℃的温度下进行预烧 结后制得多晶棒;

3)晶体生长:将多晶棒和籽晶安装在浮区炉中,密封并通入保护气体,然后升温至多 晶棒和籽晶融化,升温同时多晶棒和籽晶分别同向或反向转动,保温,接种;然后进行晶 体生长;

4)降温:晶体生长完毕后进行降温,在降温过程中,在相变点温度1535℃以上时, 降温速率为30~50℃/分钟,在相变点温度1535℃以下时,降温速率为100~200℃/小时。

2.如权利要求1中所述的焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,其特征在于,所述焦硅酸 钇闪烁单晶的化学式为(RExY1-x)2Si2O7,其中RE选自Ce、Eu、Sc、Er、La、Ho、 Dy、Lu和Gd中的一种或多种,x的取值范围为0≤x≤0.05。

3.如权利要求1中所述的焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,其特征在于,所述步骤2) 中,将混合料压成料棒的具体步骤为:将混合料充分混合后装入Φ5~10mm的橡皮管内 密封,用等静压在80~300Mpa的压力下压成致密的料棒。

4.如权利要求1中所述的焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,其特征在于,所述步骤2) 中的预烧结温度为1000~1200℃,预烧结时间为5~100小时。

5.如权利要求1中所述的焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,其特征在于,所述步骤3) 中,晶体生长的具体步骤为:将多晶棒用镍铬丝挂在浮区炉上端,籽晶装在下端,装好 后用石英管密封并通入保护气体,然后升温至多晶棒和籽晶融化,升温同时多晶棒和籽 晶分别同向或反向转动,转速为15~30rpm,保温10~15分钟,接种;然后按预先设定 的晶体形状,通过控制加热功率,进行缩颈,放肩,等径生长,最后收尾,生长结束。

6.如权利要求5中所述的焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,其特征在于,所述保护气 体为高纯氮气、氩气或者空气。

7.如权利要求1中所述的焦硅酸钇闪烁单晶的浮区法生长方法,其特征在于,所述步骤3) 的晶体生长过程中,生长速度为3~20mm/h;浮区长度为料棒直径的0.5~2倍。

8.一种焦硅酸钇闪烁单晶,由权利要求1~7中任一所述的浮区法生长方法生长获得。

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