[发明专利]提高透射电子显微镜测试样品研磨效率的方法

权利要求书

1.一种提高透射电子显微镜测试样品研磨效率的方法，用于同时研磨多于两个的样品，所述样品为具有预定厚度的矩形样品，包括样品的正面图案和背面的半导体衬底，该方法包括：

对于多于两个的样品，其正面或者背面依次相互粘贴构成整体；

对样品整体的两个相对侧面进行研磨，缩短样品两相对侧面间的距离；

其特征在于，对样品整体的其中一个侧面进行研磨之后，对另一个侧面进行研磨之前，该方法还包括：

在研磨之后的样品整体侧面上的目标位置处粘贴多个铜环，用于体现所研磨的每个样品的图案。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括在对样品整体的两个相对侧面进行研磨之后，通过每个铜环的孔径对样品的图案进行离子减薄ion milling制作薄区，用于透射电子显微镜测试。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，粘贴于样品侧面的铜环为相同两套，每套体现所研磨的每个样品的图案，每个铜环间的距离相等。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，多于两个样品中，每两个样品为一组，每组中的样品正面相对粘贴，各组间样品背面相对粘贴，剩余样品的正面朝向一组中的样品背面粘贴。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，多于两个样品中，两个样品正面相对粘贴，剩余样品的正面方向都相同，朝向所述两个样品中的任意一个的背面粘贴。

6.如权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述样品正面图案为多晶硅或者有源区。