[发明专利]具有减少极化感应电荷的高效能发光器有效
申请号: | 200910204984.4 | 申请日: | 2000-11-30 |
公开(公告)号: | CN101692477A | 公开(公告)日: | 2010-04-07 |
发明(设计)人: | B·希贝欧特;J·艾贝森 | 申请(专利权)人: | 美商克立股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭蔚 |
地址: | 美国北卡*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 减少 极化 感应 电荷 高效能 发光 | ||
本申请是申请日为2002年8月2日,申请号为00818793.2的分案申请。
相关申请
本申请享有在1999年12月2日提出的,申请号为60/168,495的临时专利申 请的优先权。
发明背景
发明领域
本发明涉及在极性表面上生长的发光化合物半导体晶体,具体地说涉及减少 或消除其自然产生的极化感应电荷以改善发射效率。
相关技术的描述
大部份半导体发光器具有一双异质结构的结构,其包括一在两包覆层之间生 长的活化或发光层。双异质结构的各层由一种以上材料制成。一包覆层为n型,即 表示其含有超量自由电子,而另一包覆层为p型,即表示其含有超量电洞。通常, 包覆层比活化层具有较大的带隙。这使注入的电子和电洞被局限在活化层内,促使 自由载体在活化层内通过空间局部化进行有效重组以产生光。另外,激光二极管(LD) 的发射器也具有通常由一种带隙更宽的材料构成的分离限制光层,围绕在双异质结 构的周围。双异质结构半导体装置已在许多刊物介绍过,包括O’Shea等人的“激 光及其应用介绍”,第166-167页,由Addison Wesley出版公司在1978年12月发 行。
当材料成分在其基本晶体结构的极性方向变化时,这种结构就会产生极化感 应电荷。极性方向是指与晶体的极化向量P不正交的任何晶体方向。这对具有自然 方向性和甚至稍微离子化晶键的材料特别适用,如第III-V族或第II-VI族半导体。 在晶格失配的材料中,这些电荷可能与应变有关(压电性),由于不同材料晶键的离 子强度不同,这些电荷就可能与成分有关(自发性),或与二者都有关。感应电荷会 产生对自由载体及外部电场有相同影响的电场或电势梯度。这种现象已在许多刊物 讨论过,包括Bernardini等人的“第III-V族氮化物的自发性极化及压电常数”, 《美国物理学会期刊》,物理评论B,卷56,No.16,1997年,第R10 024-027页, 和Takeuchi等人的“因GaInN应变量子阱的压电场引起限制量子的斯塔克效应”, 《日本应用物理期刊》,卷36,部2,No.4,1997年,第L382-L385页。在晶体 极性表面上生长的氮化物双异质结构中,这种电场强度估计高达2.5×106V/cm,参 考Bykhovski等人的“弹性应变张驰及GaN-AlN、GaN-AlGaN及GaN-InGaN超晶格 压电效应”,《日本应用物理期刊》,卷81,No.9,1997年,第6332-6338页。
当考虑在晶体极性表面生长的异质结构的电特性时,必须要将极化感应电荷 考虑在内。在纤锌矿氮化镓晶体中,晶体层沿0001方向生长,在闪锌矿砷化镓晶 体中,晶体层则沿111方向生长,这两个都是晶体极化表面的例子。纤锌矿结构的 布拉维晶格为六角形,垂直于六角形的轴通常称为C轴或0001方向。沿该轴可将 结构看成一系列由正六角形构成的同元素(例如,全部为Ga或全部为N)的原子层。 由于元素相同,所以每一层(或表面)都已极化并带有一正或一负电荷,产生穿过原 子层的一偶极子。每层的电荷状态取决于其成分原子。其它具有各种生长方向的晶 体平面的例子可参考Streetman的《固态电子装置》,第二版,Prentice-Hall公 司,1980年,第1-24页,及Shuji Nakamura等人的《蓝激光二极管,以氮化镓 为基的发光器及激光器》,Springer,1997年,第21-24页。
直到最近,与发光异质结构的活化及包覆区相关的内部极化场已不再引起重 要问题。这是因为以已知的Al-Ga-In-As-P材料系统为基的发光二极管(LEDs)通常 在非极性晶体表面上生长(特别是001闪锌矿表面)。然而,最近对以Al-Ga-In-N(氮 化物)材料系统为基的发光器进行了大量的研究,这些发光器大部份都是沿纤锌矿 晶体高极性表面的0001方向生长。但是,氮化物双异质结构却是传统非极性设计。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美商克立股份有限公司,未经美商克立股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910204984.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。