[发明专利]薄膜的清洗喷嘴装置无效
申请号: | 200910205177.4 | 申请日: | 2009-10-16 |
公开(公告)号: | CN101722156A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 杉谷悟;妻木伸夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立工业设备技术 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张斯盾 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 清洗 喷嘴 装置 | ||
技术领域
本发明涉及连续地清洗附着在塑料薄膜的表面的灰尘、薄膜片、 污渍的薄膜的清洗喷嘴装置,特别是涉及要求清洁的FPD(平板显示 器)领域、电子学领域、光学用领域的薄膜的清洗喷嘴装置。
背景技术
塑料薄膜在FPD领域、电子学领域、光学用领域等各种各样的领 域被使用。用于FPD领域、电子学领域的塑料薄膜经制膜、涂层、粘 合等工序,作为部件、工艺材料使用。其制造工序必须始终在清洁环 境下进行处理,严格地对灰尘、纤维、薄膜残渣等异物混入或附着于 制品等缺陷以及以其为起因的伤痕、推压痕迹等物理缺陷的产生进行 管理。针对这些缺陷的产生频度的市场的要求基准迅速变得严格。另 外,就缺陷的程度而言,以往并不成为问题的非常细微的缺陷也变得 不能允许,要求进行改善。
为了解决这样的问题,近年,进行了通过清洗塑料薄膜来除去尘 芥的努力。
在专利文献1中,提出了设置超声波产生喷嘴,通过从该超声波 产生喷嘴喷出的空气产生的气流和超声波产生的振动,将薄膜上的粉 尘除去的清洗喷嘴。
另外,在专利文献2中,提出了作为清洗构件,从清洗喷嘴连续 喷雾清洗液,作为清洗液再循环构件,使落下的清洗液再循环,干燥 构件连续喷出暖风的光学用塑料薄膜的清洗·干燥方法。
专利文献1:日本特开平11-239761号公报
专利文献2:日本特开2002-292347号公报
但是,在专利文献1中,光学用塑料薄膜含有可塑剂,在用酒精 清洗的情况下,产生可塑剂的溶出,薄膜的特性变化,均匀性降低成 为问题。
另外,在专利文献2中,存在因喷出的空气而剥离的尘界在附近 散乱,再附着到薄膜的可能性、对牢固地附着的物质不能充分除去这 样的问题。
然后,即使象这些专利文献1、专利文献2那样清洗薄膜,也存 在薄膜上的几μm这样非常细微的异物对薄膜的附着力强,不能很好 地除去的问题。
本发明是借鉴上述情况产生的发明,其目的在于,提供一种甚至 连附着在塑料薄膜的表面的几μm这样非常细微的灰尘、薄膜片、污 渍都能连续地除去的薄膜的清洗喷嘴装置。
发明内容
为了实现上述目的,本发明提供一种薄膜的清洗喷嘴装置,其特 征在于,具备:一或两张平部件,形成于上述平部件,相对于在平部 件平行行走的薄膜的表里面的至少一个面侧,喷出清洗液的清洗液排 出口。最好在平部件为两张时,与上述薄膜的表里相对地设置一对以 上上述清洗液排出口。
然后,最好平部件具备将喷出到上述薄膜的清洗液回收的清洗液 回收口。最好在平部件为两张时,上述清洗液回收口与上述薄膜的表 里相对地设置一对以上。
另外,最好平部件和薄膜的间隙在0.25mm以下。
根据这样地构成的薄膜的清洗喷嘴装置,甚至连附着在塑料薄膜 的表面的几μm这样非常细微的灰尘、薄膜片、污渍都能连续地除去。
即,通过用具备平部件和对薄膜供给清洗液的清洗液排出口的清 洗喷嘴装置清洗薄膜,能够利用在平部件和薄膜的间隙,具有大的速 度梯度的、沿薄膜表里面的至少一个面的水流,来将几μm这样非常 细微的灰尘、薄膜片、污渍从薄膜除去。
特别是,因为通过做成由平部件和薄膜构成的0.25mm以下的间 隙,从供给口供给的清洗液在0.25mm以下的狭窄的间隙具有大的速 度梯度,所以,能够将几μm这样非常细微的灰尘、薄膜片、污渍从 薄膜除去。
在这里,仅具备一张平部件的薄膜的清洗喷嘴装置在想要仅清洗 薄膜的单面时适用。
另外,最好在薄膜的清洗喷嘴装置设置对将清洗液向薄膜喷出的 压力进行减压的减压机构。
发明效果
根据本发明,能够提供一种甚至连附着在塑料薄膜的表面的几μm 这样非常细微的灰尘、薄膜片、污渍都能连续地除去的薄膜的清洗喷 嘴装置。
附图说明
图1是表示组入了本发明的薄膜的清洗喷嘴装置的薄膜的涂抹装 置的图。
图2是表示有关本发明的清洗喷嘴装置的实施方式的图。
图3是表示有关本发明的清洗喷嘴装置的清洗液排出口的其它的 实施方式的图。
图4是表示有关本发明的清洗喷嘴装置的简易模型和清洗液压力 分布的关系的图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立工业设备技术,未经株式会社日立工业设备技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910205177.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种降脂茶及其生产制作工艺
- 下一篇:双密度泥浆返回系统