[发明专利]倾斜传感器及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种倾斜传感器，其用于检测诸如数码照相机的设备 的倾斜。本发明还涉及用于制造该倾斜传感器的方法。

背景技术

图15示出了常规倾斜传感器的一个实例(见JP-A-2007-139643)。 图示的倾斜传感器X包括装配板91、外壳92、盖板93、一对光接收 元件94A和94B、光发射元件95以及转动部件96。外壳92包括向上 开口的凹部。该凹部被盖板93封闭，由此限定内部空间92a。转动部 件96被配置为通过重力牵引在内部空间92a中自由移动。光接收元件 94A、94B和光发射元件95安装在装配板91的正表面上。从光发射元 件95发出的光被导入内部空间92a中。然后，光被设在盖板93上的 反射膜93a反射。转动部件96根据倾斜传感器X的状态变化在内部空 间92a内转动。特别地，转动部件96可以移动到遮住光接收元件94A 的位置、遮住光接收元件94B的位置、以及遮住光发射元件95的位置。 取决于转动部件96的位置，从光发射元件95发出的光只到达光接收 元件94A、只到达光接收元件94B、或者既不到达光接收元件94A也 不到达光接收元件94B。因此，通过监测光接收元件94A、94B的光接 收，可以检测在包括装配板1的正表面的平面内的倾斜。

为了确保精确的倾斜检测，转动部件96应当被配置以通过重力在 内部空间92a内平滑移动。然而，在常规结构中，转动部件96经常附 着到外壳92或盖板93上，从而即使在重力的牵引方向(相对于传感 器X)改变时也不能正确地移动位置。当倾斜传感器X的尺寸减小时， 该问题更频繁地发生。

发明内容

在上述情况下提出了本发明。因此，本发明的目的是提供一种转 动部件在其中平滑移动的倾斜传感器。

根据本发明的第一方面，提供一种倾斜传感器，其包括：沿检测 目标平面的表面方向相互隔开的光发射元件和一对光接收元件；以及 适于采取完全光屏蔽位置、部分光屏蔽位置和非光屏蔽位置中的任何 一种的转动部件，其中，完全光屏蔽位置是转动部件挡住从光发射元 件发出的光使得光不到达这对光接收元件中的任一光接收元件的位 置，部分光屏蔽位置是转动部件挡住从光发射元件发出的光使得光只 到达这对光接收元件中的一个光接收元件的位置，而非光屏蔽位置是 转动部件不挡住从光发射元件发出的光使得光到达这对光接收元件中 的两个光接收元件的位置。该倾斜传感器还包括形成有用于容纳转动 部件的内部空间的外壳，以及暴露于内部空间的不规则顶板表面。

利用以上配置，转动部件不附着到盖板上，由此精确地执行倾斜 的检测。

优选地，转动部件可以是具有垂直于表面方向的中心轴的圆柱形 部件。利用该配置，转动部件可以平滑移动，同时适当地挡住来自光 发射元件的光。

优选地，不规则顶板表面可以设有多个突起，当沿垂直于表面方 向的方向观察时，这些突起各自的面积小于转动部件。

优选地，可以以小于转动部件直径的间隔来布置突起。

优选地，突起可以在横截面上为圆形。

优选地，突起可以是以放射状延伸的方式布置的细长突起。

优选地，本发明的倾斜传感器可进一步包括设有顶板表面的盖子， 并且突起可以由在盖子上形成的电镀膜构成。

优选地，倾斜传感器可进一步包括：与盖子直接接触的基底电镀 层；以及在基底电镀层上形成的中间电镀层；其中，基底电镀层的面 积大于突起，中间电镀层具有与突起相对应的形状，并且突起形成在 中间电镀层上。

优选地，基底电镀层和突起可以由铜制成，并且中间电镀层可以 包括镍层和铜层，其中，靠近基底电镀层布置镍层，靠近突起布置铜 层。

优选地，倾斜传感器可以进一步包括用于盖住突起和基底电镀层 的外电镀层，其中，外电镀层包括由金制成的正表面。

根据本发明的第二方面，提供一种用于制造根据本发明第一方面 的倾斜传感器的方法。该方法包括以下步骤：在设有顶板表面的盖板 上形成基底电镀层；形成覆盖基底电镀层的中间电镀层；形成覆盖中 间电镀层的突起生长层(yield layer)；通过使突起生长层和部分中间电 镀层图案化来形成多个突起；以及形成覆盖突起和基底电镀层的外电 镀层。