[发明专利]光介质用溅射靶及其制造方法、和光介质及其制造方法

权利要求书

1.一种光介质，其特征在于，包括：

基板；和

反射层，其设置在所述基板上，具有以Al为主成分、并含有1～ 10at％的选自Ta和Nb中的1种或2种元素、以及0.1～10at％的Ag 的组成，

在所述反射层的成膜结束面一侧有光入射面，从该光入射面入射 读取用或写入用的激光束，

在所述反射层上还设置有至少具有2个反应层的记录层，在所述 反射层和所述记录层之间具有电介质层，在令所述电介质层的折射率 为n、所述电介质层的膜厚为d的情况下，为66＜nd＜76，膜厚d的 单位是nm。

2.如权利要求1所述的光介质，其特征在于：

一个所述反应层的构成元素和其它的所述反应层的构成元素通过 写入用的激光束的照射能够互相混合。

3.如权利要求1所述的光介质，其特征在于：

所述记录层具有第一反应层和第二反应层，该第一反应层以选自 Cu、Al、Zn和Ag中的1种元素为主成分，该第二反应层以选自Si、 Ge和Sn中的1种元素为主成分。

4.一种光介质的制造方法，其特征在于，所述光介质是如权利要 求1～3中的任一项所述的光介质，

所述光介质的制造方法包括：使用以Al为主成分、并含有1～10at ％的选自Ta和Nb中的1种或2种元素、以及0.1～10at％的Ag的光 介质用溅射靶，对反射层进行成膜的工序。