[发明专利]移送基板用托盘及具有该托盘的真空处理装置

权利要求书

1.一种移送基板用托盘，用于将多个基板移送到开设有排气孔的真空处 理装置的内部，该排气孔使收容于内部的加工气体流出到外部，其特征在于， 该移送基板用托盘包括：

平板部，具有平板形状，用于放置所述多个基板；以及

遮挡壁，所述遮挡壁包括沿着所述平板部的周边设置的边框部和设置在 所述多个基板之间而划分出设置各所述基板的空间的隔离壁，以便延长在所 述基板的上侧向基板侧喷射的加工气体的滞留时间。

2.如权利要求1所述的移送基板用托盘，其特征在于，

包围所述多个基板中的位于所述平板部中央部分的基板的隔离壁部分自 所述平板部向上方延伸突出的高度，低于包围所述多个基板中的位于所述平 板部外侧的基板的隔离壁部分自所述平板部向上方延伸突出的高度。

3.如权利要求1或2所述的移送基板用托盘，其特征在于，

在所述边框部上设有贯通一侧面和另一侧面的通孔，该通孔使所述加工 气体能够流动。

4.如权利要求1或2所述的移送基板用托盘，其特征在于，

所述遮挡壁还包括沿着所述边框部的边沿向内侧突出而形成的挡板部。

5.如权利要求1或2所述的移送基板用托盘，其特征在于，

所述平板部和所述遮挡壁由陶瓷或玻璃构成。

6.一种移送基板用托盘，用于将多个基板移送到开设有排气孔的真空处 理装置的内部，该排气孔使收容于内部的加工气体流出到外部，其特征在于， 该移送基板用托盘包括：

平板部，具有平板形状，用于放置所述多个基板；以及

遮挡壁，所述遮挡壁包括沿着所述平板部的周边设置的边框部和沿着所 述边框部的边沿向内侧突出而形成的挡板部，以便延长在所述基板的上侧向 基板侧喷射的加工气体的滞留时间。

7.如权利要求6所述的移送基板用托盘，其特征在于，

在所述边框部上设有贯通一侧面和另一侧面的通孔，该通孔使所述加工 气体能够流动。

8.如权利要求6所述的移送基板用托盘，其特征在于，

所述平板部和所述遮挡壁由陶瓷或玻璃构成。

9.一种真空处理装置，其特征在于，包括：

反应器，开设有使内部和外部相互联通的排气孔；

基板支撑台，设置在所述反应器的内部；

气体供给机构，向所述反应器的内部喷射加工气体；以及

移送基板用托盘，被移送到所述反应器的内部，并且被支撑在所述基板 支撑台上，该移送基板用托盘包括：平板部，具有平板形状，用于放置多个 基板；遮挡壁，所述遮挡壁包括沿着所述平板部的周边设置的边框部和设置 在所述多个基板之间而划分出设置各所述基板的空间的隔离壁，以便延长从 所述气体供给机构喷射的所述加工气体的滞留时间。

10.如权利要求9所述的真空处理装置，其特征在于，

在所述边框部上设有贯通一侧面和另一侧面的通孔，该通孔使所述加工 气体能够流动。

11.如权利要求10所述的真空处理装置，其特征在于，

所述遮挡壁还包括沿着所述边框部的边沿向内侧突出而形成的挡板部。

12.如权利要求9所述的真空处理装置，其特征在于，

在所述反应器的内部还包括产生等离子的等离子发生器。