[发明专利]偏转装置无效
| 申请号： | 200910206598.9 | 申请日： | 2009-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101692154A | 公开（公告）日： | 2010-04-07 |
| 发明（设计）人： | 中山田宪昭;和气清二 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈萍 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏转 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种偏转装置，其特征在于，具备：
偏转器，使向载物台上的试样照射的带电粒子束偏转；
位置偏移量分布计算构件，根据被照射了上述带电粒子束的照射区域的带电量分布、以及不被照射带电粒子束的非照射区域的带电量分布，计算上述试样上的带电粒子束的位置偏移量的分布；以及
偏转器控制构件，根据上述位置偏移量的分布，控制上述偏转器。
2.如权利要求1所述的偏转装置，其特征在于，还具备：
带电量分布计算构件，利用照射在上述试样上的带电粒子束的照射量分布、以及雾电子量分布，来计算上述照射区域及非照射区域的带电量分布。
3.如权利要求2所述的偏转装置，其特征在于，还具备：
雾电子量分布计算构件，根据上述照射量分布和从上述照射区域向上述非照射区域扩散的雾电子的扩散分布，计算上述雾电子量分布。
4.如权利要求3所述的偏转装置，其特征在于，还具备：
照射量分布计算构件，根据上述试样的每个规定区域的图案密度分布及剂量分布，计算上述照射量分布。
5.如权利要求4所述的偏转装置，其特征在于，还具备：
剂量分布计算构件，根据上述图案密度分布，计算上述剂量分布。
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