[发明专利]交通工具、显示器和半导体器件的制造方法有效
申请号: | 200910207607.6 | 申请日: | 2002-11-29 |
公开(公告)号: | CN101685796A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 高山彻;丸山纯矢;后藤裕吾;桑原秀明;山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L21/50;H01L21/78;H01L27/32 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 汤春龙;李家麟 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 交通工具 显示器 半导体器件 制造 方法 | ||
1.一种制造半导体器件的方法,包括:
在第一衬底上形成金属层和氧化物层的叠层;
在所述叠层上形成阻挡层;
在所述阻挡层上形成非单晶半导体层;
用激光扫描所述非单晶半导体层,以便形成结晶半导体层;
对所述结晶半导体层进行构图,以便形成岛状形半导体层;
使用所述岛状形半导体层,形成薄膜晶体管;
在所述薄膜晶体管上形成绝缘膜;
在所述绝缘膜上形成阴极和阳极其中之一,所述阴极和所述阳极的所述其中之一电连 接到所述薄膜晶体管;
在所述阴极和所述阳极的所述其中之一上形成发光层;
在所述发光层上形成所述阴极和所述阳极的其中另一个;
采用第一粘合剂将第二衬底粘接于所述发光层、所述阴极和所述阳极上;
通过物理装置在所述氧化物层的内部或其边界进行剥离来分离具有所述金属层的所 述第一衬底,以及
采用第二粘合剂将柔性第三衬底贴合于所述氧化物层,
其中所述薄膜晶体管的沟道长度方向与所述激光的扫描方向相对准。
2.根据权利要求1所述的制造半导体器件的方法,其中所述金属层和所述氧化物层通 过所述物理装置在所述氧化物层的所述内部或所述氧化物层的所述边界处分离。
3.一种制造半导体器件的方法,包括:
在第一衬底上形成金属层和氧化物层的叠层;
在所述氧化物层上形成包括薄膜晶体管的第一层,通过激光照射形成所述第一层中的 所述薄膜晶体管;
在所述第一衬底上形成包括发光元件的第二层,所述发光元件电连接到所述薄膜晶体 管;
通过沿着将被剥离的区域的周边进行部分激光照射或施加局部压力以便对所述氧化 物层的表面或一部分内部造成损伤,部分地减小所述金属层和所述氧化物层之间的粘附 力;
使用粘合剂将膜粘接于第二衬底;
使用第一粘合剂将具有所述膜的所述第二衬底与所述第二层粘接,其中所述第一层和 所述第二层介于所述第二衬底和所述第一衬底之间;
通过物理装置剥离所述第一衬底连同所述金属层,使得所述第二层、所述第一层和所 述氧化物层保留在所述第二衬底上;
使用第二粘合剂将柔性第三衬底贴合于所述氧化物层,其中,所述第一粘合剂和所述 第二粘合剂的每个具有大于所述粘合剂的粘附力;以及
将所述第二衬底与所述膜分离,
其中,所述薄膜晶体管的沟道长度方向与所述激光的扫描方向相对准。
4.根据权利要求1或3所述的制造半导体器件的方法,其中所述金属层包括从Ti,Al, Ta,W,Mo,Cu,Cr,Nd,Fe,Ni,Co,Ru,Rh,Pd,Os,Ir以及Pt中选取的至少一个元素。
5.根据权利要求1或3所述的制造半导体器件的方法,其中所述氧化物层包括氧化硅。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910207607.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于基片的未模制封装
- 下一篇:快闪装置以及提高快闪装置性能的方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造