[发明专利]半导体装置及该半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910208120.X 申请日: 2009-10-28
公开(公告)号: CN101740631A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 秋元健吾;津吹将志 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/423;H01L21/34;H01L21/84;H01L21/28
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 刘倜
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,包括:

衬底上的栅电极层;

所述栅电极层上的栅极绝缘层;

夹着所述栅极绝缘层而重叠于所述栅电极层的一部分的源电极 层及漏电极层;以及

在所述栅电极层上并与位于所述源电极层和所述漏电极层之间 的区域的所述栅极绝缘层接触的氧化物半导体层,其中所述氧化物半 导体层设置在所述源电极层及所述漏电极层上,

其中,在所述栅电极层上并位于所述源电极层和所述漏电极层之 间的区域的所述栅极绝缘层的厚度薄于设置在所述栅电极层与所述 源电极层和所述漏电极层中的至少一方之间的所述栅极绝缘层的厚 度,

其中,所述源电极层及所述漏电极层的端部具有锥形形状,并且

其中,所述源电极层及所述漏电极层的上端部具有曲面形状。

2.一种半导体装置,包括:

衬底上的栅电极层;

所述栅电极层上的第一绝缘层;

所述第一绝缘层上的第二绝缘层,其中所述第二绝缘层重叠于所 述栅电极层的一部分;

夹着所述第一绝缘层及所述第二绝缘层而重叠于所述栅电极层 的所述部分的源电极层及漏电极层;以及

在所述栅电极层上并与位于所述源电极层和所述漏电极层之间 的区域的所述第一绝缘层接触的氧化物半导体层,其中所述氧化物半 导体层设置在所述源电极层及所述漏电极层上,

其中,所述源电极层及所述漏电极层的端部具有锥形形状,并且

其中,所述源电极层及所述漏电极层的上端部具有曲面形状。

3.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,在所述栅电极层 上并位于所述源电极层和所述漏电极层之间的区域的所述第一绝缘 层的厚度薄于设置在所述栅电极层与所述源电极层和所述漏电极层 中的至少一方之间的所述第一绝缘层的厚度。

4.一种半导体装置,包括:

衬底上的栅电极层;

在所述栅电极层上依次层叠的第一绝缘层和第二绝缘层;

夹着所述第一绝缘层及所述第二绝缘层而重叠于所述栅电极层 的一部分的源电极层及漏电极层;以及

在所述栅电极层上并与位于所述源电极层和所述漏电极层之间 的区域的所述第二绝缘层接触的氧化物半导体层,其中所述氧化物半 导体层设置在所述源电极层及所述漏电极层上,

其中,在所述栅电极层上并位于所述源电极层和所述漏电极层之 间的区域的所述第二绝缘层的厚度薄于设置在所述栅电极层与所述 源电极层和所述漏电极层中的至少一方之间的所述第二绝缘层的厚 度,

其中,所述源电极层及所述漏电极层的端部具有锥形形状,并且

其中,所述源电极层及所述漏电极层的上端部具有曲面形状。

5.根据权利要求1、2和4中任一项所述的半导体装置,其中, 所述氧化物半导体层以夹着缓冲层的方式设置在所述源电极层及所 述漏电极层上。

6.根据权利要求1、2和4中任一项所述的半导体装置,其中, 所述源电极层及所述漏电极层的每个端部的锥形角分别大于或等于 20°且小于90°。

7.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,所述源电极层及 所述漏电极层的每个上端部的曲率半径分别为所述源电极层和所述 漏电极层中的一方的厚度的1/100以上且1/2以下。

8.根据权利要求1、2和4中任一项所述的半导体装置,其中, 所述氧化物半导体层包含选自铟、镓及锌中的至少一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910208120.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top