[发明专利]用于化学气相沉积工艺的机台

权利要求书

1.一种用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于，包含：

一边框；

一第一固定件，朝向该边框的一侧开设一凹口，该第一固定件由一第一 材质构成，该第一材质为陶瓷；

一第二固定件，其以朝向该第一固定件的一侧嵌合于该凹口，而另一侧 包含一沟槽，该第二固定件由一第二材质构成，该第二材质为锻造铝合金， 并镀上一结晶相α-Al₂O₃的陶瓷阳极膜；以及

一导块，突出于该边框的一边上，并向该边框的中心方向延伸，且该导 块嵌合于该沟槽内。

2.如权利要求1所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 包括多个锁固件，且该第二固定件另包含多个第二锁固孔，该多个第二锁固 孔开设在对应于该沟槽的区域上且贯穿该第二固定件；而该第一固定件另包 含多个第一锁固孔，该多个第一锁固孔开设在对应于该凹口的区域上，使得 每一锁固件分别穿过其中的一第二锁固孔，锁固于其中的一第一锁固孔上， 使得该第二固定件固定在该第一固定件上。

3.如权利要求1所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该第二固定件另包含二凸缘，其分别形成于该第二固定件的两侧，当该第二 固定件组装于该第一固定件时，该二凸缘分别抵靠于该第一固定件的底部， 使该第二固定件定位于该第一固定件上。

4.如权利要求1所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该第二固定件另包含多个保护孔，设置于该沟槽的两旁，用来于该机台在加 热环境下，该第二固定件具有热膨胀空间。

5.如权利要求1所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该第二固定件朝向该第一固定件的一侧的外形顺应该凹口的轮廓。

6.一种用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于，包含：

一边框；

一导块，突出于该边框的一边上，且向该边框的中心方向延伸；

一第一固定件，朝向该边框的一侧开设一凹口，该凹口包含一个以上缓 冲区，该第一固定件由陶瓷构成；以及

一第二固定件，其朝向该第一固定件的一侧以可拆卸的方式嵌合于该凹 口，朝向该导块的一侧包含一沟槽，该导块以可拆卸的方式嵌合于该沟槽， 该第二固定件由锻造铝合金构成，并镀上一结晶相α-Al₂O₃的陶瓷阳极膜。

7.如权利要求6所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 包括多个锁固件，且该第二固定件另包含多个第二锁固孔，该多个第二锁固 孔开设在对应于该沟槽的区域上且贯穿该第二固定件；而该第一固定件另包 含多个第一锁固孔，该多个第一锁固孔开设在对应于该凹口的区域上，使得 每一锁固件分别穿过其中的一第二锁固孔，锁固于其中的一第一锁固孔上， 使得该第二固定件固定在该第一固定件上。

8.如权利要求6所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该第二固定件另包含二凸缘，其分别形成于该第二固定件的两侧，当该第二 固定件组装于该第一固定件时，该二凸缘分别抵靠于该第一固定件的底部， 使该第二固定件定位于该第一固定件上。

9.如权利要求6所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该第二固定件另包含多个保护孔，设置于该沟槽的两旁，用来于该机台在加 热环境下，该第二固定件具有热膨胀空间。

10.如权利要求6所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该缓冲区呈弧形。

11.如权利要求6所述的用于化学气相沉积工艺的机台，其特征在于， 该缓冲区为顶角大于90度的多边形。