[发明专利]限制几何构型稀土烯丙基配合物及制法和在共轭双烯烃高顺1,4选择性聚合中的应用

权利要求书

1.限制几何构型稀土烯丙基配合物，其特征在于，分子式为 {R₁-C₆H₄-o-Z(R₂)_m}Ln(η³-C₃H₅)₂，结构式为：

结构式中的R₁为四甲基环戊二烯基或茚基；Z为氮原子或磷原子；R₂为甲基或苯基； m＝2；Ln为Y、Nd、Gd、Dy或Lu。

2.如权利要求1所述的限制几何构型稀土烯丙基配合物，其特征在于，其为如下的1～ 11的配合物中的任意一个，其中：

配合物1：Ln＝Y，Z＝N，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Me，m＝2；

配合物2：Ln＝Nd，Z＝N，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Me，m＝2；

配合物3：Ln＝Gd，Z＝N，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Me，m＝2；

配合物4：Ln＝Dy，Z＝N，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Me，m＝2；

配合物5：Ln＝Lu，Z＝N，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Me，m＝2；

配合物6：Ln＝Y，Z＝P，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Ph，m＝2；

配合物7：Ln＝Gd，Z＝P，R₁为四甲基环戊二烯基，R₂＝Ph，m＝2；

配合物8：Ln＝Y，Z＝N，R₁为茚基，R₂＝Me，m＝2；

配合物9：Ln＝Dy，Z＝N，R₁为茚基，R₂＝Me，m＝2；

配合物10：Ln＝Y，Z＝P，R₁为茚基，R₂＝Ph，m＝2；

配合物11：Ln＝Gd，Z＝P，R₁为茚基，R₂＝Ph，m＝2。

3.如权利要求1所述的限制几何构型稀土烯丙基配合物的制法，其特征在于，步骤和条 件如下：

在N₂保护下，把限制几何构型配体R₁H-C₆H₄-o-Z(R₂)_m溶于四氢呋喃并置于-78℃，加入 所述的限制几何构型配体1倍摩尔量的浓度为1.0～2.0mol/L正丁基锂的正己烷溶液，反应1 小时后，加入所述的限制几何构型配体1倍摩尔量的稀土氯化物，反应4小时后，加入所述 的限制几何构型配体2倍摩尔量的C₃H₅MgCl，室温反应12小时后，除去溶剂，用甲苯萃取， 浓缩甲苯，得到限制几何构型稀土烯丙基配合物；所述的稀土氯化物的化学式是为LnCl₃，其 中Ln同权利要求1所述的限制几何构型稀土烯丙基配合物中的Ln。