[发明专利]一种NiTiO3纳米薄膜的微波水热制备方法无效
| 申请号： | 200910218853.1 | 申请日： | 2009-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101775656A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 黄剑锋;郝品;曹丽云;吴建鹏 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C30B29/32 | 分类号： | C30B29/32;C30B7/10;C23C26/00 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710021陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 nitio sub 纳米 薄膜 微波 制备 方法 | ||
1.一种NiTiO3纳米薄膜的微波水热制备方法，其特征在于：
步骤一：将分析纯的六水硝酸镍加入无水乙醇中，并不断搅拌，配制 成Ni2+浓度为0.3mol/L～1mol/L的透明溶液，所得溶液记为A；
步骤二：向A溶液中加入分析纯的钛酸四丁酯，使得Ni2+与Ti4+的摩 尔比为1∶1，并不断搅拌，然后再向溶液中加入柠檬酸，使柠檬酸与所有 阳离子的摩尔比为0.7～2∶1，最后加入与无水乙醇体积比分别为5∶1～ 10∶1的水和7∶1～15∶1的乙酰丙酮，搅拌均匀后所得溶液记为B，作 为镀膜液备用；
步骤三：将硅基板放入双氧水中超声震荡1h，使其带有活性，然后将 硅基板放入干燥箱中在50℃下干燥；
步骤四：将上述制备的B溶液倒入水热反应釜中，填充度控制在50-80 ％；将上述干燥后的硅基片放置在水热釜中，浸于镀膜液体中；然后密封 水热反应釜，将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中；选择控温模 式或者控压模式进行反应，所述的控温模式的水热温度控制在100-200℃， 控压模式的水热压力控制在0.5MPa-4.0MPa，反应时间控制在 10min-90min，反应结束后自然冷却到室温；
步骤五：打开水热反应釜，取出硅基片后分别采用去离子水、无水乙 醇或异丙醇洗涤，于电热鼓风干燥箱中在80℃下干燥2h，即得最终产物 NiTiO3纳米薄膜。
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