[发明专利]一种NiTiO3纳米薄膜的微波水热制备方法无效

专利信息
申请号: 200910218853.1 申请日: 2009-10-30
公开(公告)号: CN101775656A 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: 黄剑锋;郝品;曹丽云;吴建鹏 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C30B29/32 分类号: C30B29/32;C30B7/10;C23C26/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710021陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 nitio sub 纳米 薄膜 微波 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种制备NiTiO3薄膜的方法,具体涉及一种NiTiO3纳米薄 膜的微波水热制备方法。

背景技术

含有不同金属的钛系氧化物MTiO3(M=Ni,Pb,Fe,Co,Cu和Zn)广泛 用于固体氧化物燃料电池电极(SOFC)、金属一空气隔绝材料、气敏传感器 的无机功能材料。NiTiO3属于钛铁矿结构的三角晶系,由于它的半导电性 和弱磁性,是重要的化学材料和电气材料,用于诸多工业领域,如半导体 整流器、碳酸氢盐催化剂和表面包覆的染色混合剂,还可用作高温条件下 降低摩擦和损耗的包覆材料。NiTiO3具有高Q值、低介电常数和良好的声 -光和电-光性质,具有广泛应用前景,引起人们极大关注。

目前关于制备NiTiO3纳米薄膜的报道不是很多,NiTiO3纳米薄膜的制 备依旧是材料界较为新颖的课题。D.J.Taylor等(D.J.Taylor,P.F. Fleig,R.A.Page.2002,(408):104-110)采用溶胶凝胶法制备出了 NiTiO3纳米薄膜,但是制备出的薄膜在1400℃的高温后处理下才仅含有少 量杂质,而随着后处理温度的降低杂质含量越高。迄今为止,还未见在相 对较低的温度下制备不含杂质的高纯NiTiO3纳米薄膜的报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种NiTiO3纳米薄膜的微波水热制备方法。采用 本发明的制备方法不仅降低了制备成本,而且制备出了致密均匀的高纯、 均匀性好的NiTiO3薄膜。

为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:

步骤一:将分析纯的六水硝酸镍加入无水乙醇中,并不断搅拌,配制 成Ni2+浓度为0.3mol/L~1mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;

步骤二:向A溶液中加入分析纯的钛酸四丁酯,使得Ni2+与Ti4+的摩 尔比为1∶1,并不断搅拌,然后再向溶液中加入柠檬酸,使柠檬酸与所有 阳离子的摩尔比为0.7~2∶1,最后加入与无水乙醇体积比分别为5∶1~ 10∶1的水和7∶1~15∶1的乙酰丙酮,搅拌均匀后所得溶液记为B,作 为镀膜液备用;

步骤三:将硅基板放入双氧水中超声震荡1h,使其带有活性,然后将 硅基板放入干燥箱中在50℃下干燥。

步骤四:将上述制备的B溶液倒入水热反应釜中,填充度控制在50-80 %;将上述干燥后的硅基片放置在水热釜中,浸于镀膜液体中;然后密封 水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模 式或者控压模式进行反应,所述的控温模式的水热温度控制在100-200℃, 控压模式的水热压力控制在0.5MPa-4.0MPa,反应时间控制在 10min-90min,反应结束后自然冷却到室温;

步骤五:打开水热反应釜,取出硅基片后分别采用去离子水、无水乙 醇或异丙醇洗涤,于电热鼓风干燥箱中在80℃下干燥2h,即得最终产物 NiTiO3纳米薄膜。

由于本发明反应在液相中一次完成,不需要后期处理,且工艺设备简 单,所得薄膜纯度较高,均一性好,薄膜与衬底结合牢固,不但不受衬底 形状和尺寸限制,且可以通过反应温度和压力来控制薄膜微晶尺寸大小。 晶粒生长可控,反应周期短,重复性好,因此具有广阔的发展前景。本发 明的方法不需要后期的晶化热处理,从而避免了薄膜在热处理过程中可能 导致的卷曲、干裂、晶粒粗化以及薄膜与衬底或气氛反应等缺陷。而且工 艺制备简单,操作方便,原料易得,可以降低制膜成本。

具体实施方式

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