[发明专利]以中间相炭微球为炭源的反应烧结碳化硅陶瓷的制备方法无效
申请号: | 200910219518.3 | 申请日: | 2009-12-16 |
公开(公告)号: | CN101747044A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 王继平;夏鸿雁;乔冠军;史忠旗;杨建峰;王红洁 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565;C04B35/622 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 中间 相炭微球 反应 烧结 碳化硅 陶瓷 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种反应烧结碳化硅陶瓷及制备方法,特别涉及一种以中间相 炭微球为炭源的反应烧结碳化硅陶瓷及制备方法。
背景技术
碳化硅陶瓷具有耐高温、抗热震、耐腐蚀、抗冲刷、耐磨、重量轻及良好 的热传导性能等优点。这种材料自20世纪60年代作为核燃料包壳材料以来, 用途日趋广泛。可作为耐磨构件、热交换器、防弹装甲板、大规模集成电路底 板及火箭发动机燃烧室喉衬和内衬材料等。反应烧结法制备碳化硅与其他方法 相比,具有原料成本相对较低,且可一次性致密的特点。其基本原理是:具有 反应活性的液硅,在毛细管力的作用下渗入含碳的多孔陶瓷素坯,并与其中的 碳反应生成碳化硅,新生成的碳化硅原位结合素坯中原有的碳化硅颗粒,浸渗 剂填充素坯中的剩余气孔,完成致密化的过程。根据目前的文献报道,多孔陶 瓷素坯中的碳多为煤烟、半焦、碳黑、树脂等,且需额外添加有机粘结剂成型。 采用这类碳制备的反应烧结碳化硅一般含有5~30vol%的游离硅,从而限制了 其在高温及腐蚀性环境下的应用。
为此,要想提高它的高温性能和耐腐蚀性,必须消除游离硅。目前采用高 熔点硅合金取代游离硅成为有效方法之一。Lim等人用一般的方法得到反应烧 结碳化硅材料,然后在高温下使硅蒸发掉,将熔融MoSi2二次浸渍多孔SiC,得 到的材料性能优异。具体参见C.B.Lim,T.Yano,T.Iski.Microstructure and mechanical properties of RB-SiC/MoSi2composites.J.Mater.Sci.24(1989): 4144-4151。但这种方法无法使材料内部的残留硅完全排除掉,同时两相热膨 胀系数不一易产生热应力而导致材料内部缺陷。
发明内容
针对上述现有材料中存在的缺陷或不足,本发明提供一种以中间相炭微球 为炭源的反应烧结碳化硅陶瓷的制备方法,该方法首次采用中间相炭微球为炭 源,反应烧结法制备碳化硅陶瓷。具体的技术方案如下:
(1)备料:选用中间相炭微球及碳化硅颗粒为原材料,其中碳化硅占原料 质量百分数为10~40%。采用无水乙醇作为介质,玛瑙球为混料球机械湿混 12~48h。在空气中经10~24h烘干。最后将混合料过200目筛。
(2)成型:在室温下将混合料模压或等静压成型,成型压力50~100MPa。
(3)预烧结:在石墨坩埚内平铺一定量的硅颗粒,且硅颗粒与中间相炭微 球质量比为3∶1~4∶1。将成型后的生坯平放于硅颗粒上,然后置于热处理炉内, 向炉内通氮气,同时以300~400℃/h的升温速度加热,在1200~1350℃恒温 0.5~1h。
(4)熔融硅浸渍反应:继续以100~300℃/h的升温速度加热,当温度高于 1350℃时开始抽真空,1500~1700℃保温0.5~1h完成熔融硅浸渍、硅/炭反应。 保温过程中关闭真空泵。
(5)降温:选择自然降温,降温开始后抽真空15min以排除炉内硅蒸气。 最后向炉内通入氮气保护。
中间相炭微球是液相炭化沥青中分离出的、具有堆砌层片结构的球体。由 于本身含有一定的粘性组分,使其具有自烧结、均匀收缩、残碳值高等优点。 另一方面,SiC颗粒能够在较低温度下促进碳制品的石墨化,从而使碳球中的 层片结构部分开裂。因此,熔融硅在浸渍素坯过程中,不仅可以浸渍炭微球之 间孔道,还可以进入炭球内部,从而使反应更充分。与此同时,SiC颗粒在烧 结过程中还会抑制中间相炭微球的收缩,根据SiC掺量可以调整素坯的孔隙率 (见表1)。这样得到的碳化硅陶瓷密度、各相含量都会不同,最终材料性能 也会不同。
表11300℃烧结后素坯孔隙率及密度
本发明得到的反应烧结碳化硅陶瓷密度相对较低(~2.7g/cm3),但强度高 (≥300MPa),残硅量小(<10vol%),适合作为高温及腐蚀性气氛下的结构 材料使用。与此同时,碳化硅基体中未反应的层片状碳有利于将该材料作为摩 擦磨损材料使用。
附图说明
图1为掺SiC后MCMBs进行1300℃烧结SEM抛光照片。
图2为掺20wt.%SiC后渗硅制备的反应烧结碳化硅抛光金相及SEM照片。
具体实施方式
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