[发明专利]液晶显示器及阵列基板的制造方法有效
申请号: | 200910235616.6 | 申请日: | 2009-09-30 |
公开(公告)号: | CN102033345A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 王丹;林炳仟;邱海军 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133;G02F1/1362;G03F7/00;H01L27/02;H01L21/82 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示器 阵列 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示技术,尤其涉及一种液晶显示器及阵列基板的制造方法。
背景技术
随着液晶显示技术的迅速发展,由于液晶显示器具有功耗低、轻薄等优势,已逐步取代传统的阴极射线管(Cathode Ray Tube;以下简称:CRT)显示器,快速进入了人们的日常生活中。液晶显示器的主体结构包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,在阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶。其中,阵列基板的主体结构包括形成在基板上的栅线、数据线、像素电极等,并由相互垂直的栅线和数据线定义了像素区域;彩膜基板的主体结构包括形成在基板上的黑矩阵、红色像素、绿色像素和蓝色像素;彩膜基板上像素图形形成的位置与阵列基板上的各像素区域完全对应。
现有技术中的液晶显示器均为单一盒厚,即阵列基板和彩膜基板之间的盒厚是均匀的,彩膜基板上红色像素、绿色像素和蓝色像素对应的栅绝缘层或钝化层的厚度是相等的,如图1所示为现有技术中液晶显示器的内部结构示意图,dR、dG和dB分别为红色像素、绿色像素和蓝色像素对应的盒厚,三者是相等的。然而,液晶分子对红光(R)、绿光(G)和蓝光(B)等各波段的光的敏感性不同,在各波段下得到的光电曲线是不同的,如图2和图3所示分别为现有技术中液晶分子在各波段下的V-T模拟曲线示意图和Gamma模拟曲线示意图,从图中可以看出,R/G/B像素分别对应不同的Gamma值。而且当R/G/B像素对应的Gamma值相差较大的时候,会引起产品的gamma异常,导致产品的显示品质下降。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示器及阵列基板的制造方法,实现多重盒厚的液晶显示器,使得R/G/B不同像素对应相同的Gamma值,减少液晶显示器产品的Gamma异常,提高液晶显示器产品的显示品质。
为了实现上述目的,本发明提供了一种液晶显示器,包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,所述彩膜基板包括设置在基板上的黑矩阵、红色像素、绿色像素和蓝色像素,所述红色像素、所述绿色像素和所述蓝色像素对应的所述液晶显示器的盒厚不同。
所述红色像素、所述绿色像素和所述蓝色像素对应的所述阵列基板中栅绝缘层的厚度不同。
所述红色像素、所述绿色像素和所述蓝色像素对应的所述阵列基板中钝化层的厚度不同。
具体地,所述红色像素和所述绿色像素对应的所述阵列基板中栅绝缘层的厚度差值范围为0-1微米,所述绿色像素和所述蓝色像素对应的所述阵列基板中栅绝缘层的厚度差值范围为0-1微米。
所述红色像素和所述绿色像素对应的所述阵列基板中钝化层的厚度差值范围为0-1微米,所述绿色像素和所述蓝色像素对应的所述阵列基板中钝化层的厚度差值范围为0-1微米。
本发明还提供了一种阵列基板的制造方法,包括:
在基板上通过构图工艺形成包括栅线和栅电极的图形;
在完成上述步骤的所述基板上沉积栅绝缘薄膜,在所述栅绝缘薄膜上涂覆一层光刻胶,形成栅绝缘层;
采用包括全色调区域、第一半色调或灰阶色调区域和第二半色调或灰阶色调区域的掩膜板对所述栅绝缘层进行刻蚀,使得所述栅绝缘层在彩膜基板中的红色像素、绿色像素和蓝色像素所分别对应的厚度不同;
在完成上述步骤的所述基板上通过构图工艺形成包括数据线、漏电极、源电极和像素电极的图形。
进一步地,所述采用包括全色调区域、第一半色调或灰阶色调区域和第二半色调或灰阶色调区域的掩膜板对所述栅绝缘层进行刻蚀,使得所述栅绝缘层在彩膜基板中的红色像素、绿色像素和蓝色像素所分别对应的厚度不同包括:
采用包括全色调区域、第一半色调或灰阶色调区域和第二半色调或灰阶色调区域的掩膜板对所述栅绝缘层进行曝光,使所述栅绝缘层形成光刻胶完全去除区域、第一光刻胶半保留区域和第二光刻胶半保留区域,所述光刻胶完全去除区域对应于彩膜基板中红色像素所对应的区域,所述第一光刻胶半保留区域对应于所述彩膜基板中绿色像素所对应的区域,所述第二光刻胶半保留区域对应于所述彩膜基板中蓝色像素所对应的区域;
通过多步刻蚀工艺对所述栅绝缘层进行处理,使得所述第二光刻胶半保留区域的栅绝缘层的厚度大于所述第一光刻胶半保留区域的栅绝缘层的厚度,所述第一光刻胶半保留区域的栅绝缘层的厚度大于所述光刻胶完全去除区域的栅绝缘层的厚度。
所述掩膜板中所述第一半色调或灰阶色调区域的透光率大于所述第二半色调或灰阶色调区域的透光率。
进一步地,本发明提供的阵列基板的制造方法还包括:
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