[发明专利]一种消色差位相延迟器有效

专利信息
申请号: 200910241868.X 申请日: 2009-12-11
公开(公告)号: CN101762842A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 康果果;谭峭峰;陈谭轩;金国藩 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 徐宁;关畅
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 色差 位相 延迟
【权利要求书】:

1.一种消色差位相延迟器,其特征在于:它包括两片以上级联的亚波长光栅, 每一片所述亚波长光栅在一基底的表面上周期性地刻蚀有若干平行的沟槽,第i 块所述亚波长光栅相邻两所述沟槽之间的距离为di,相邻两所述沟槽之间的背脊 宽度与相邻两所述沟槽间距离的比值为fi,每一所述沟槽的刻蚀深度为hi,光栅 矢量方向垂直于所述亚波长光栅的栅条方向,且所述光栅矢量方向与所述亚波长 光栅上x轴正方向的夹角为所述亚波长光栅的快轴方向角θi

所述级联的亚波长光栅针对中、远红外双波段内各波长的实际位相延迟 αλ(di,hi,θi,fi)与目标位相延迟之间的函数关系为:

λ|αλ(di,hi,θi,fi)-α|=Min]]>

上式中,Min是指所述级联的亚波长光栅针对中、远红外双波段内各波长的实 际位相延迟与目标位相延迟之差的和为最小值。

2.如权利要求1所述的一种消色差位相延迟器,其特征在于:所述光栅的数 目为4片,且对于第一片所述亚波长光栅,所述距离d1=0.30μm,所述比值f1=0.50, 所述刻蚀深度h1=3.02μm,所述快轴方向角θ1=39.07°;对于第二片所述亚波长光 栅,所述距离d2=0.30μm,所述比值f2=0.50,所述刻蚀深度h2=2.08μm,所述快 轴方向角θ2=-20.52°;对于第三片所述亚波长光栅,所述距离d3=0.30μm,所述 比值f3=0.50,所述刻蚀深度h3=2.19μm,所述快轴方向角θ3=-52.17°;对于第 四片所述亚波长光栅,所述距离d4=0.30μm,所述比值f4=0.50,所述刻蚀深度 h4=1.97μm,所述快轴方向角θ4=88.26°。

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