[发明专利]用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统

权利要求书

1.一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括：

照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；

至少一个反射镜，设置在所述基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少一个反射镜的光；

成像单元，设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧并且用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少一个反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据所述其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；

图像构建模块，用于分别根据所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及

图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

2.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置相同或者其偏移量等于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在所述构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

3.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置不相同且其偏移量小于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的内部的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在所述构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

4.如权利要求1所述的系统，其中

所述照明单元向所述基板照射的光是漫射光。

5.如权利要求1所述的系统，其中

所述成像单元进一步用于以预定时间间隔来拍摄所述至少一个二维图像中的各个二维图像。

6.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像构建模块进一步用于当所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像具有压缩变形时，拉伸所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像，以及，在对所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像进行拉伸后，分别根据所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像，构建所述基板的所述两个图像。

7.如权利要求1所述的系统，其中

所述基板包括用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。

8.如权利要求1所述的系统，其中

当所述至少一个反射镜是一个反射镜时，所述其中两个光是所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述一个反射镜反射的光，以及，当所述至少一个反射镜是两个反射镜时，所述其中两个光是所述两个反射镜各自反射的光。