[发明专利]电浆制程设备

权利要求书

1.一种电浆制程设备，系用以处理基板，其特征在于：其包含：

一腔体；

一承载装置，系选择性置放于该腔体中；

至少一制程模块，系依序置放于该承载装置中；

至少一均温板，系设置于该制程模块中；

至少一反应室，系设置于该制程模块中，该反应室并与该均温板接触，该反应室用以置放该基板；

至少一气体室，系设置于该制程模块中，该气体室并与该反应室接触；以及

至少一电极板，系设置于该制程模块中，该电极板并与该气体室接触。

2.如权利要求1所述的电浆制程设备，其特征在于：该均温板内嵌设有一加热器。

3.一种电浆制程设备，系用以处理基板，其特征在于：其包含：

一腔体；

至少一支撑组件，其一端放置于一处理平面上，另一端与该腔体连接，该支撑组件用以使该腔体与该处理平面成一倾斜角度；

一承载装置，系选择性置放于该腔体中；

至少一制程模块，系依序设置于该承载装置中；

至少一均温板，系设置于该制程模块中；

至少一反应室，系设置于该制程模块中，该反应室并与该均温板接触，该反应室用以置放该基板；

至少一气体室，系设置于该制程模块中，该气体室并与该反应室接触；以及

至少一电极板，系设置于该制程模块中，该电极板并与该气体室接触；

其中，藉由该腔体与该处理平面成一倾斜角度，使得该基板与该均温板因重力而紧密贴合，遂均匀受热。

4.如权利要求3所述的电浆制程设备，其特征在于：该均温板内嵌附有一加热器。

5.如权利要求3所述的电浆制程设备，其特征在于：该制程模块系可选择性增加置放于该承载装置中。

6.如权利要求3项所述的电浆制程设备，其特征在于：该倾斜角度为6度。

7.一种电浆制程设备，系用以处理基板，其特征在于：其包含：

一腔体；

一承载装置，系选择性放置于该腔体内；

至少一支撑组件，其一端放置于该腔体内，另一端与该承载装置连接，该支撑组件用以使该承载装置与该腔体成一倾斜角度；

至少一制程模块，系依序设置于该承载装置中；

至少一均温板，系设置于该制程模块中；

至少一反应室，系设置于该制程模块中，该反应室并与该均温板接触，该反应室用以置放该基板；

至少一气体室，系设置于该制程模块中，该气体室并与该反应室接触；以及

至少一电极板，系设置于该制程模块中，该电极板并与该气体室接触；

其中，藉由该承载装置与该腔体成一倾斜角度，使得该基板与该均温板因重力而紧密贴合，遂均匀受热。

8.如权利要求7所述的电浆制程设备，其特征在于：该均温板内嵌附有一加热器。

9.如权利要求7所述的电浆制程设备，其特征在于：该制程模块系可选择性增加置放于该承载装置中。

10.如权利要求7所述的电浆制程设备，其特征在于：该倾斜角度为6度。