[发明专利]光刻胶剥离剂用组合物及薄膜晶体管阵列基板的制造方法

权利要求书

1.用于光刻胶剥离剂的组合物，包括：

5-30重量％的链状胺化合物；

0.5-10重量％的环状胺化合物；

10-80重量％的二醇醚化合物；

5-30重量％的蒸馏水；和

0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。

2.权利要求1的组合物，其中所述链状胺化合物为选自如下的至少一 种：单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、丙醇胺、二丙醇胺、三丙醇胺、异 丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、2-(2-氨基乙基 氨基)乙醇、N，N-二甲基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙 基乙醇胺、N-丁基乙醇胺和N-甲基二乙醇胺。

3.权利要求1的组合物，其中所述环状胺化合物为选自如下的至少一 种：1-(2-羟基乙基)哌嗪、1-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羟基乙基)-4-甲基哌嗪、 N-(3-氨基丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、4-氨基-1-甲基哌嗪、1-苄 基哌嗪和1-苯基哌嗪。

4.权利要求1的组合物，其中所述二醇醚化合物具有160℃或更高的 沸点。

5.权利要求4的组合物，其中所述二醇醚化合物为选自如下的至少一 种：乙二醇乙基醚、乙二醇丁基醚、二甘醇甲基醚、二甘醇乙基醚、二甘 醇丙基醚、二甘醇丁基醚、三甘醇甲基醚、三甘醇乙基醚、三甘醇丁基醚、 三甘醇和四甘醇。

6.权利要求1的组合物，其中所述腐蚀抑制剂为选自以下的至少一种： 葡萄糖、糖醇、芳族羟基化合物、炔醇、羧酸化合物及其酐、和三唑化合 物。

7.权利要求6的组合物，其中所述腐蚀抑制剂为选自如下的至少一种： 山梨糖醇、木糖醇、邻苯二酚、焦性没食子酸、没食子酸、2-丁炔-1，4-二醇、 邻苯二甲酸、邻苯二甲酸酐、水杨酸、抗坏血酸、甲苯基三唑和苯并三唑。

8.制造薄膜晶体管阵列基板的方法，所述方法包括：

在基板的像素区域上形成包含栅电极、源电极和漏电极的薄膜晶体管 (TFT)；

在所述TFT上形成钝化层；和

在所述钝化层上形成与所述漏电极连接的像素电极，

其中当在形成所述TFT、所述钝化层和所述像素电极的各个中使用光 刻胶图案时，所述光刻胶图案通过光刻胶剥离剂剥离，用于所述光刻胶剥 离剂的组合物包括5-30重量％的链状胺化合物、0.5-10重量％的环状胺化 合物、10-80重量％的二醇醚化合物、5-30重量％的蒸馏水和0.1-5重量％ 的腐蚀抑制剂。

9.权利要求8的方法，进一步包括在所述基板的像素区域上形成彩色 有机膜。

10.权利要求8的方法，其中所述链状胺化合物为选自如下的至少一 种：单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、丙醇胺、二丙醇胺、三丙醇胺、异 丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、2-(2-氨基乙基 氨基)乙醇、N，N-二甲基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙 基乙醇胺、N-丁基乙醇胺和N-甲基二乙醇胺。

11.权利要求8的方法，其中所述环状胺化合物为选自如下的至少一种： 1-(2-羟基乙基)哌嗪、1-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羟基乙基)-4-甲基哌嗪、N-(3- 氨基丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、4-氨基-1-甲基哌嗪、1-苄基哌嗪 和1-苯基哌嗪。

12.权利要求8的方法，其中所述二醇醚化合物具有160℃或更高的沸 点。

13.权利要求12的方法，其中所述二醇醚化合物为选自如下的至少一 种：乙二醇乙基醚、乙二醇丁基醚、二甘醇甲基醚、二甘醇乙基醚、二甘 醇丙基醚、二甘醇丁基醚、三甘醇甲基醚、三甘醇乙基醚、三甘醇丁基醚、 三甘醇和四甘醇。

14.权利要求8的方法，其中所述腐蚀抑制剂为选自以下的至少一种： 葡萄糖、糖醇、芳族羟基化合物、炔醇、羧酸化合物及其酐、和三唑化合 物。