[发明专利]新颖的膦硼烷化合物及其制造方法以及氢-膦硼烷化合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 200910254275.7 申请日: 2009-12-14
公开(公告)号: CN101747377A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 间山大辅 申请(专利权)人: 日本化学工业株式会社
主分类号: C07F9/6568 分类号: C07F9/6568;C07F9/50
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京江*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 新颖 膦硼烷 化合物 及其 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种膦硼烷化合物,其特征在于:

所述膦硼烷化合物是以通式(P-1)表示,

式中,R1以及R2分别独立地表示烃基,R3表示不对称烃基,

所述烃基选自碳数为1~8的直链状或者支链状的烷基;所述不对称 烃基选自(S)-1-苯基乙基、(R)-1-苯基乙基、(S)-1-(1-萘基)乙基与 (R)-1-(1-萘基)乙基所组成的族群的其中之一。

2.根据权利要求1所述的膦硼烷化合物,其特征在于:

所述膦硼烷化合物是以通式(1)表示,

式中,R1以及R2是通过这些基团的存在而使磷原子成为不对称原子或 者使磷原子成为不对称面的一点的一对基团,分别表示烃基;R3表示不对 称烃基;*表示不对称。

3.根据权利要求1或者2所述的膦硼烷化合物,其特征在于:

所述R3为(S)-1-苯基乙基或者(R)-1-苯基乙基。

4.一种膦硼烷化合物的制造方法,其是根据权利要求1所述的膦硼 烷化合物的制造方法,其特征在于:

使以通式(P-2)表示的氢-膦硼烷化合物与以通式(3)表示的光学 活性异氰酸酯化合物进行偶合反应,

式中,R1以及R2与所述通式(P-1)相同,

式中,R3与所述通式(P-1)相同。

5.一种膦硼烷化合物的制造方法,其是根据权利要求2所述的膦硼 烷化合物的制造方法,其特征在于:

使以通式(2)表示的氢-膦硼烷化合物与以通式(3)表示的光学活 性异氰酸酯化合物进行偶合反应之后,通过光学拆分进行精制,

式中,R1以及R2与所述通式(1)相同,

式中,R3与所述通式(1)相同。

6.一种以通式(4)表示的光学活性的氢-膦硼烷化合物的制造方法, 其特征在于:

使权利要求2所述的膦硼烷化合物进行分解反应,

式中,R1、R2、*与所述通式(1)相同。

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