[发明专利]视角可控制的液晶显示装置及其制造方法有效
申请号: | 200910259168.3 | 申请日: | 2009-12-15 |
公开(公告)号: | CN101752306A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 李挥得 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L27/02;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 视角 控制 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种视角可控制的液晶显示(LCD)装置及其制造方法, 更具体地,本发明涉及一种能够选择性地实现宽视角和窄视角的视角可 控制的LCD装置及其制造方法。
背景技术
随着消费者对信息显示的兴趣提高,以及对于便携式(移动)信息 设备的需求增长,替代作为传统显示设备的阴极射线管(CRT)的轻、 薄的平板显示器(FPD)的研究和商业化已经增长。在FPD中,液晶显 示器(LCD)是利用液晶的光学各向异性来显示图像的装置。LCD装置 呈现出优秀的分辨率、色彩显示以及图像质量,因此通常用于笔记本电 脑或桌上计算机的显示器等。
LCD包括滤色器基板、阵列基板、以及形成在滤色器基板和阵列基 板之间的液晶层。
通常用于LCD的有源矩阵(AM)驱动方法是利用作为开关元件的 非晶硅薄膜晶体管(a-Si TFT)驱动像素部分中的液晶分子的方法。
下面将参照图1详细描述通常的LCD的结构。
图1是示出通常的LCD装置的分解立体图。
如图1所示,LCD包括滤色器基板5、阵列基板10、以及形成在滤 色器基板5和阵列基板10之间的液晶层30。
滤色器基板5包括:滤色器(C),其包括实现红色、绿色和蓝色的 多个子滤色器7;黑底(black matrix)6,用于划分子滤色器7并且阻挡 穿过液晶层30的光透射;以及透明公共电极8,用于向液晶层30施加电 压。
阵列基板10包括:多条选通线16和多条数据线17,其分别垂直和 水平地设置以限定多个像素区域(P);多个TFT(T),其为形成在所述 选通线16和数据线17的各交叉处的多个开关元件;以及形成在像素区 域(P)上的像素电极18。
通过在图像显示区域的边缘形成的密封剂(未显示),以彼此面对的 方式接合滤色器基板5和阵列基板10以形成液晶板,并且通过在滤色器 基板5或阵列基板10上形成的接合标记(key)实现所述滤色器基板5 和阵列基板10的接合。
在对个人信息保护的关注增加的情况下,针对用户希望通过笔记本 计算机、移动电话等仅仅自己观看屏幕图像的情况,诸如在屏幕上附接 防窥视密封件(seal)的防窥视技术正在开发中,但是该技术存在的问题 是屏幕变暗,视野受到限制等。
因此,需要一种允许根据用户要求自由地将视角调节为宽视角或窄 视角的技术。
发明内容
本发明的目的是提供一种视角可控制的液晶显示(LCD)装置及其 制造方法,其能够根据用户要求实现宽视角和窄视角。
本发明的另一目的是提供一种视角可控制的LCD装置,其能够通过 增加电控双折射(ECB)控制像素的单元间隙以达到效率最大化,进而 提高视角控制效果。
本发明的再一目的是提供一种视角可控制的LCD装置,其能够通过 减小ECB控制像素的像素区附近的台阶来防止光泄漏。
本发明实施方式的附加特征和优点将在下面的描述中阐述,并且一 部分会在描述中变得明显,或者可以通过实施本发明的实施方式来了解。 通过在书面说明及其权利要求书以及附图中具体指出的结构,可以实现 并获得本发明实施方式的目的和其他优点。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910259168.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种回转刀具高速空转噪声的测试方法
- 下一篇:一种称量轴重的方法和系统
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造