[发明专利]一种零界絮流脱硫除尘方法及设备

权利要求书

1.一种零界絮流脱硫除尘方法，其特征在于，其包括以下步骤：

(1)设置一筒状的塔体，该塔体内由下往上依次分隔成零界絮流反应区、缓冲区和脱水区，该缓冲区与脱水区之间设置一旋流脱水器，该零界絮流反应区与缓冲区之间的隔板为一漏斗状隔板，于该零界絮流反应区的中轴位置设置一筒状的旋流桶，该旋流桶的顶端与漏斗状隔板密封连接，所述漏斗状隔板的中心位置为一上旋流器，该旋流桶的中部设一下旋流器，于所述零界絮流反应区设有一紧贴塔体内壁从而能让气体易于形成旋流的进气管道，该进气管道的水平位置高于所述旋流桶的底部，所述上旋流器与下旋流器之间设置一循环进水管，将塔体的下盖为漏斗状，在下盖的中心位置设置一循环出水管；

(2)在所述旋流桶中添加能与含硫化学物充分反应的絮流反应剂，从循环进水管接入水源，絮流反应剂溶解在水中形成泡沫，在上旋流器与下旋流器之间形成一由泡沫组成的絮流反应柱；

(3)开启电源，使旋流脱水器、上旋流器与下旋流器工作，在塔体内形成上旋气流，气流对絮流反应柱的上升浮力与絮流反应柱所受的重力相等，从而使絮流反应柱不会随水流流走；

(4)将需要脱硫除尘的气体通过进气管道导入到塔体内，气体在零界絮流反应区中向下回旋，气体中部分粉尘由于离心力作用被甩到了塔体的下盖上，被水流从循环出水管带走，剩余的气体在上旋流器和下旋流器工作所形成的吸力作用下从旋流桶的底部吸入到旋流桶中，气体经过上旋流器与下旋流器之间的絮流反应柱，气体中的含硫化学物与絮流反应剂反应后产生沉淀物，气体中的粉尘被吸附在絮流反应柱上，沉淀物与粉尘被水流带到塔体底部由循环出水管带走；

(5)经过脱硫除尘后的气体回旋着进入塔体中的缓冲区，气体中的水分得到初步的脱离，再通过旋流脱水器充分脱水，然后由设在塔体顶部的出气口排走。

2.一种实施权利要求1所述的零界絮流脱硫除尘方法的设备，其特征在于：其包括一圆筒状的塔体，所述塔体内由下往上依次分隔成零界絮流反应区、缓冲区和脱水区，该缓冲区与脱水区之间设置一旋流脱水器，该零界絮流反应区与缓冲区之间的隔板为一漏斗状隔板，于该零界絮流反应区的中轴位置设置一筒状的旋流桶，于所述零界絮流反应区设有一紧贴塔体内壁从而能让气体易于形成旋流的进气管道，该进气管道的水平位置高于所述旋流桶的底部，将塔体的下盖为漏斗状，在下盖的中心位置设置一循环出水管，该塔体的顶部设有一出气口。

3.根据权利要求2所述的零界絮流脱硫除尘设备，其特征在于，所述旋流桶的顶端与漏斗状隔板密封连接，所述漏斗状隔板的中心位置为一上旋流器，所述旋流桶的中部设一下旋流器，所述上旋流器与下旋流器之间设置一循环进水管。

4.根据权利要求3所述的零界絮流脱硫除尘设备，其特征在于，于所述筒体上设一循环进水孔，该循环进水孔与所述循环进水管连接。

5.根据权利要求4所述的零界絮流脱硫除尘设备，其特征在于，于对应所述缓冲区和脱水区的塔体上分别设有一观察所述旋流脱水器或上旋流器是否需清洗的观察窗。

6.根据权利要求5所述的零界絮流脱硫除尘设备，其特征在于，于所述旋流脱水器和上旋流器上方的塔体上分别设有一清洗水管。

7.根据权利要求2所述的零界絮流脱硫除尘设备，其特征在于，其还包括一使塔体直立固定的支架，该支架设在所述塔体的下半部。