[发明专利]光学补偿的单向掩模版弯曲器

权利要求书

1.一种包括图案形成装置处理器的光刻设备，所述光刻设备包括：

支撑结构，所述支撑结构配置以支撑其上具有图案的给定的图案形成装置，所述图案形成装置被配置以将所述图案的至少一部分赋予入射的辐射束，所述支撑结构包括被配置以弯曲所述图案形成装置的弯曲器；和

投影系统，所述投影系统设置在所述图案形成装置和衬底位置之间，所述投影系统能够将来自所述图案形成装置的所述辐射束投影到位于所述衬底位置处的衬底上。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述支撑结构被配置以在扫描方向上移动，和所述弯曲器被配置以围绕大致平行于所述扫描方向的轴线来弯曲所述图案形成装置。

3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中，所述弯曲器被配置和布置以响应于所述衬底的一部分的已绘制的拓扑来弯曲所述图案形成装置。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述衬底的已绘制的部分对应于所述衬底的域。

5.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述弯曲器被配置用于在第一方向上单向弯曲。

6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中，所述投影系统包括光学补偿元件，所述光学补偿元件配置以在不同于所述第一方向和与所述第一方向相关联的方向上弯曲所述辐射束的波前。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述光学补偿元件包括从由透镜和反射镜构成的组中选出的至少一个元件，且所述光学补偿元件被抛光成大致圆柱形。

8.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述光学补偿元件在其自由状态中是从由透明平坦板和平坦反射镜构成的组中选出的大致平坦的光学元件，且所述光学补偿元件被配置以能够通过使用力致动器来弯曲成大致圆柱形。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中，由所述致动器产生的力的大小可以被改变，以在所述光学补偿元件中产生不同大小的曲率。

10.根据权利要求9所述的光刻设备，其中，在所述力改变成大致为零时，所产生的曲率大致为零。

11.根据权利要求9所述的光刻设备，其中，由所述致动器产生的所述力的方向是可颠倒的。

12.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述光学补偿元件能够弯曲所述辐射束的波前，以大致抵消所述图案形成装置的弯曲幅度和弯曲形状，使得在穿过所述光学补偿元件之后，所述辐射束具有大致平坦的波前。

13.根据权利要求3所述的光刻设备，其中，所述弯曲器包括运动学地耦合至所述支撑结构的反作用框架。

14.一种制造方法，该方法包括步骤：

绘制衬底的拓扑；

以与所述衬底的已绘制的拓扑相关联的方式来弯曲图案形成装置；

将辐射束投影引导到所述图案形成装置上；

将所述图案的一部分赋予所述辐射束；和

将来自所述图案形成装置的所述辐射束投影到所述衬底上。

15.根据权利要求14所述的方法，还包括步骤：

停止所述辐射束；

相对于所述衬底扫描所述支撑结构至所述衬底的域；

绘制所述域的拓扑；和

响应于所述域的已绘制的拓扑来弯曲所述图案形成装置；

其中，所述支撑结构被配置以在扫描方向上移动和围绕大致平行于所述扫描方向的轴线发生弯曲；和

其中所述弯曲在第一方向上进行，所述投影系统包括光学补偿元件，所述光学补偿元件被配置以在与第一方向相反的第二方向上弯曲所述辐射束的波前。