[发明专利]光学补偿的单向掩模版弯曲器

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2008年12月31日递交的美国临时申请No.61/141,951的优先权，其公开的全部内容在此以引用方式并入本文中。

技术领域

本发明主要涉及光刻术，尤其涉及光刻聚焦控制设备和方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也能够以通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。

在通过光刻术制造器件时，将辐射束聚焦控制到衬底上是极其重要的。聚焦控制中的一个关键误差源是衬底(例如晶片)的固有不平坦性。如果衬底的局部拓扑被绘图且是已知的，那么根据衬底的已绘制的拓扑通过沿垂直方向(“z-方向”)调整图案形成装置，可以在扫描方向上部分地补偿这种不平坦性。然而，这无助于在非扫描方向(“x-方向”)上校正聚焦误差。还可以围绕平行于和垂直于扫描方向的轴线旋转图案形成装置，但这仅部分地校正在x和y方向上的聚焦误差。由于这些原因，在x方向上的聚焦控制是重大的挑战。在其它情形中，甚至图案形成装置自身的固有不平坦性可以将误差引入聚焦控制中。

发明内容

本发明的实施例涉及光刻设备的图案形成装置处理器。本发明的一个实施例提供了光刻设备，该光刻设备包括用于支撑其上具有图案的图案形成装置的支撑结构。图案形成装置构造和布置以将图案的至少一部分赋予入射的辐射束。支撑结构包括弯曲器，所述弯曲器被构造和布置以弯曲图案形成装置。光刻设备包括设置在图案形成装置和衬底位置之间的投影系统，该投影系统能够将来自图案形成装置的辐射束投影到位于衬底位置处的衬底上。

本发明的一个实施例提供了一种制造方法，该方法包括绘制衬底的拓扑，以与衬底的已绘制的拓扑相关联的方式弯曲图案形成装置。该方法包括：将辐射束引导到图案形成装置上；将图案的一部分赋予辐射束；和将来自图案形成装置的辐射束投影到衬底上。

本发明的一个实施例提供包括程序指令的计算机可读介质，其在通过基于处理器的控制系统来执行时，使得系统依照方法来控制光刻设备。所述方法包括：绘制衬底的拓扑，以与衬底的已绘制的拓扑相关联的方式用光刻设备的弯曲器来弯曲光刻设备的图案形成装置，将辐射束引导到图案形成装置上，和用光刻设备的投影系统将来自图案形成装置的辐射束投影到衬底上。

本发明的一个实施例提供了用于在光刻设备中保持其上具有图案的给定的可弯曲的图案形成装置的支撑结构。支撑结构包括被配置以基于衬底的拓已绘制的扑在第一方向上弯曲图案形成装置的弯曲器，用于校正在图案形成装置将图案的至少一部分赋予入射的辐射束时由被图案化的衬底的拓扑产生的聚焦误差。支撑结构被配置以在与第一方向相反的第二方向上光学地补偿图案形成装置的弯曲。

附图说明

上述的发明内容阐述了许多，但不是本发明的全部方面。通过结合参考附图阅读多个“实施例”的描述，本发明的其它方面对本发明所属技术领域的技术人员来说是显而易见的。在阐述下述的实施例时，通过示例的方式示出了本发明，但不是限制性的。附图中同样的参考标记表示类似的元件。

图1A和1B分别示出与本发明的一个实施例相一致的反射式和透射式的光刻设备；

图2是与本发明的一个实施例相一致的光刻单元的示意图；

图3是与本发明的一个实施例相一致的晶片的示意图；

图4是与本发明的一个实施例相一致的图案形成装置的侧视图；

图5是与本发明的一个实施例相一致的在弯曲配置中的图3的图案形成装置的侧视图；

图6是与本发明的一个实施例相一致的具有线性致动器阵列的图案形成装置的侧视图；

图7是与本发明的一个实施例相一致的具有反作用框架和致动器的支撑结构的俯视平面视图；