[发明专利]用于清洗基板的装置

权利要求书

1.一种用于清洗基板的设备，包括：

基板插入引导单元，用于从外部插入基板；

杂质移除单元，用于接收来自基板插入引导单元的基板，以移除形成在基板上的杂质；

杂质清洗单元，用于接收来自杂质移除单元的基板，以清洗并移除残留在基板上的杂质；和

位置控制单元，用于控制从杂质清洗单元运出的基板的位置，

其中所述杂质清洗单元包括形成有多个紧固孔的插入块；多孔清洗板，其中插入块被插入到以规则间隔形成的凹槽中；和歧管，其中经由插入块中的紧固孔插入紧固螺丝以将歧管与多孔清洗板组合。

2.如权利要求1所述的用于清洗基板的设备，其中杂质清洗单元包括彼此面对的上杂质清洗单元和下杂质清洗单元。

3.如权利要求2所述的用于清洗基板的设备，其中上杂质清洗单元和下杂质清洗单元相互分离开预定距离，并且在分离开的这两个结构之间的空间中形成用于移动基板的移动空间。

4.如权利要求3所述的用于清洗基板的设备，进一步包括：

多孔，其配置有在插入块处形成的用于向移动空间喷射空气以及吸入喷射的空气的吸气孔，和用于向移动空间喷射清洗溶液的去离子水孔。

5.如权利要求4所述的用于清洗基板的设备，其中所述多孔被配置为在插入块被紧固到歧管的位置处与在歧管上提供的连接孔相通。

6.如权利要求1所述的用于清洗基板的设备，其中在多孔清洗板上以规则间隔沿长度方向形成具有预定深度的沟槽，该预定深度是用于将被插入的以预定距离分离开的插入块。

7.如权利要求6所述的用于清洗基板的设备，其中该插入块配置有上头部和下部主体，该上头部具有“T”形截面，并且该上头部的宽度大于多孔清洗板的凹槽的宽度，以便将其容纳在所述沟槽内，而该下部主体的宽度与多孔清洗板的凹槽的宽度相对应，以便将其插入到所述凹槽中，同时该下部主体的一部分被装配到歧管中，并与该歧管结合。

8.如权利要求7所述的用于清洗基板的设备，其中该插入块的下主体被形成为深于在多孔清洗板和歧管之间的接触表面。

9.如权利要求1所述的用于清洗基板的设备，其中从设置有所述插入块的多孔清洗板的上部朝着下歧管的方向紧固所述紧固螺丝。

10.如权利要求1所述的用于清洗基板的设备，其中从歧管的下部朝着上多孔清洗板的方向紧固所述紧固螺丝。

11.如权利要求1所述的用于清洗基板的设备，其中在歧管上形成空气孔，以通过将多孔清洗板和歧管相互组合，在它们之间提供空气通路。

12.如权利要求11所述的用于清洗基板的设备，其中该空气通路形成在多孔清洗板或歧管中的任何之一处。

13.如权利要求1所述的用于清洗基板的设备，其中在歧管和多孔清洗板之间的接触部分中插入密封圈。

14.如权利要求13所述的用于清洗基板的设备，其中该密封圈是特氟纶基或氟基材料。