[发明专利]遮光片阵列、遮光片阵列制造方法及镜头模组阵列无效
| 申请号： | 200910301809.7 | 申请日： | 2009-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN101872033A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 洪新钦 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G03F7/00;G02B7/02;H01L27/146 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 遮光 阵列 制造 方法 镜头 模组 | ||
1.一种遮光片阵列，其包括一块透光平板，其特征在于，该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区，该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面，该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。
2.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于：该粗糙区具有相对的第一表面和第二表面，该第一表面为粗糙面，该遮光层至少设于该第一表面与该第二表面中的一个面。
3.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于：该多个透光区呈阵列式排布。
4.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于：该粗糙区设有至少两个贯穿该透光平板及该遮光层的对位孔。
5.如权利要求1所述的遮光片阵列，其特征在于：该遮光片阵列进一步包括设于该透光区的表面的滤光层。
6.一种遮光片阵列的制造方法，其包括以下步骤：
提供一块透光平板；
于该透光平板的表面设置光阻层；
对该光阻层曝光显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；
对该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙面；
于该粗糙面形成遮光层；
去除该预留部分，使透光平板相应于原预留部分的表面曝露于外，以形成具有多个间隔分布的透光区的遮光片阵列。
7.如权利要求6所述的遮光片阵列的制造方法，其特征在于：该遮光片阵列的制造方法进一步包括形成至少两个对位孔，该对位孔贯穿该透光平板及该遮光层。
8.如权利要求6所述的遮光片阵列的制造方法，其特征在于：该遮光片阵列的制造方法进一步包括形成滤光层于该透光区的表面。
9.一种镜头模组阵列，其包括：一个镜片阵列，该镜片阵列包括多个镜片；
一个与该镜片阵列叠合在一起的遮光片阵列，该遮光片阵列包括一块透光平板，该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区，该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面，该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层，该透光区的中心轴与该镜片的中心轴重合。
10.如权利要求9所述的镜头模组阵列，其特征在于：其特征在于，该粗糙区具有相对的第一表面及第二表面，该第一表面为粗糙面，该遮光层至少设于该第一表面与第二表面中的一个面。
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