[发明专利]遮光片阵列、遮光片阵列制造方法及镜头模组阵列

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学元件，尤其涉及一种晶圆级(wafer level)遮光片阵列、遮光片阵列的制造方法及具有该遮光片阵列的镜头模组阵列。

背景技术

一般的镜头模组主要包括镜片组、容纳镜片组的镜筒、影像感测器和镜座，影像感测器设置在镜座内，镜座容纳可旋转的镜筒。但是，该镜头模组一般体积较大。

随着摄像技术的发展，镜头模组与各种便携式电子装置如手机、摄像机、电脑等的结合，更是得到众多消费者的青睐，所以市场对小型化镜头模组的需求增加。

目前小型化镜头模组多采用晶圆级镜片，其一般是利用精密模具制造出微型镜片阵列，然后与硅晶圆制成的影像感测器电连接、封装，然后切割，得到的每一小单元都是一个晶圆级的相机模组。然而，部分入射光线并非直接通过折射后进入影像感测器，而是在各晶圆级镜片的表面经过多次反射后进入影像感测器，从而形成眩光，造成影像模糊，眩光的存在严重影响了所拍摄影像的品质。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种能减少/消除眩光的遮光片阵列、一种制造该遮光片阵列的方法及具有该镜头模组阵列。

一种遮光片阵列包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区。该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面。该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。

一种遮光片阵列的制造方法包括以下步骤：提供一块透光平板；于该透光平板的表面设置光阻层；对该光阻层曝光显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；对该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙面；于该粗糙面形成遮光层；去除该预留部分，使透光平板相应于原预留部分的表面曝露于外，以形成具有多个间隔分布的透光区的遮光片阵列。

一种镜头模组阵列包括一个镜片阵列及与该镜片阵列叠合在一起的遮光片阵列。该镜片阵列包括多个镜片。该遮光片阵列包括一块透光平板。该透光平板具有多个间隔分布的透光区及在该透光区周围的粗糙区。该透光区为实心透光体，其具有两个相对且平行的表面。该遮光片阵列还包括设于该粗糙区的遮光层。该透光区的中心轴与该镜片的中心轴重合。

与现有技术相比，本发明提供的遮光片阵列的遮光层设于遮光片阵列的粗糙面，可有效的减少/消除眩光现象：一方面该遮光层本身可以吸收光线，另一方面，即使有部分未被遮光层吸收的光线还可由该遮光层与粗糙面之间的粗糙介面而产生漫反射，从而更有效地防止散杂光进入镜片阵列，减少/消除眩光。

附图说明

图1是本发明第一实施例的遮光片阵列的制造方法的流程图，该遮光片阵列包括一块透光平板。

图2是提供的透光平板及设于该透光平板表面的光阻层的示意图。

图3是对图2中的光阻层曝光、显影后留下的多个间隔分布的预留部分的示意图。

图4是对该预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理后的示意图。

图5是形成遮光层于该粗糙表面及预留部分表面的示意图。

图6是去除该预留部分，以形成具有多个透光区的遮光片阵列的示意图。

图7是形成滤光层于该透光区的表面的示意图。

图8是形成对位孔于该遮光片阵列的示意图。

图9是本发明第二实施例提供的遮光片阵列的示意图。

图10是本发明第三实施例提供的镜头模组阵列的示意图。

具体实施方式

请参阅图1，其为本发明第一实施例中遮光片阵列的制造方法的流程图。该方法包括以下步骤：

提供一块透光平板；

于该透光平板的表面设置光阻层；

对该光阻层曝光、显影，以保留该光阻层的多个间隔分布的预留部分；

对该光阻层的预留部分周围的透光平板的表面进行粗糙化处理，以使其成为粗糙面；

于该粗糙面形成遮光层；

去除该预留部分，使透光平板相应于原预留部分的表面曝露于外，以形成具有多个间隔分布的透光区的遮光片阵列。

下面将以制造遮光片阵列20为例对本发明实施例中遮光片阵列的制造方法进行详细说明。

请参阅图2，首先提供一块透光平板10。于该透光平板10的表面设置光阻层102。本实施例中，该透光平板10由玻璃制成，采用旋涂方法在该透光平板10的表面设置负光阻层102。当然，该透光平板10也可以由塑料等透光材料制成。当然，也可以采用喷涂方法在该透光平板10的表面设置正光阻层。