[发明专利]模仁以及微光学透镜阵列的制造方法无效
申请号: | 200910302641.1 | 申请日: | 2009-05-26 |
公开(公告)号: | CN101900842A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 骆世平 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G03F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 以及 微光 透镜 阵列 制造 方法 | ||
1.一种微光学透镜阵列的制造方法,其包括以下步骤:
提供一个模仁,该模仁具有第一表面,该第一表面具有采用微影制程制作的第一标记,以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二标记;
测得该第二标记相对该第一标记的偏移量;
提供一基板,该基板具有一个第二表面;
于该第二表面采用微影制程制作第三标记,该第三标记在该第二表面的位置与该第一标记在该第一表面的位置相同;
先将该第三标记与该第一标记对准;
再根据该偏移量移动该基板以使该第三标记与该第二标记对准;
于该模仁或该基板上施加成型材料,并压印成型该微光学透镜阵列。
2.如权利要求1所述的微光学透镜阵列的制造方法,其特征在于:先于该第一表面制作该第一标记,再于该第一表面制作该第二标记。
3.如权利要求1所述的微光学透镜阵列的制造方法,其特征在于:该第一标记、该第二标记和该第三标记均是“十”字形标记。
4.如权利要求1至3中任一项所述的微光学透镜阵列的制造方法,其特征在于:该第一标记的线宽小于30微米大于10微米,该第三标记的线宽为1微米。
5.如权利要求1所述的微光学透镜阵列的制造方法,其特征在于:该第三标记包括相互垂直的横臂和纵臂,每条横臂包括多条横线,每条纵臂包括多条纵线,该多条纵线相互平行且间距为1微米,该多条横线相互平行且间距为1微米。
6.如权利要求5所述的微光学透镜阵列的制造方法,其特征在于:所述纵线和所述横线相交的区域留白。
7.如权利要求1所述的微光学透镜阵列的制造方法,其特征在于:该第一标记在黄光室中采用微影制程制作。
8.一种模仁,其特征在于:该模仁具有第一表面,该第一表面具有采用微影制程制作的第一标记,以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二标记。
9.如权利要求8所述的模仁,其特征在于:该第一标记的线宽小于30微米大于10微米。
10.如权利要求8所述的模仁,其特征在于:该第一标记和该第二标记均为“十”字形标记。
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