[发明专利]模仁以及微光学透镜阵列的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学元件的制造领域，尤其涉及一种用于压印成型微光学透镜阵列的模仁以及微光学透镜阵列的制造方法。

背景技术

随着光电产品的发展，微光学透镜因为可在小面积产生光学效果，已成为光电产业需求甚广之基础元件。例如液晶显示器之背光板即使用光学透镜阵列，以达到使背光均匀化之效果。因此利用各种制程制造微光学元件的技术已经成为各界竞相发展的技术。

目前，有不少制造微光学透镜阵列的方法，其中，压印成型微光学透镜

的方法一般是在一基板，例如硅晶圆上涂布成型材料，利用预先制做好的微光学透镜模具压于该成型材料之上，经过固化后在硅晶圆上形成微光学透镜阵列。一般地，在压印过程中都存在将模仁和硅晶圆对准的步骤，以提高产品的精确度和质量，例如，在模仁和硅晶圆上分别制造对准标记，然后将两个对准标记对准即可。

然而，由于微光学透镜模仁以及位于其上的对准标记通常是利用超精密加工技术制造得到的，其线宽在100微米左右，而在硅晶圆上制造的标记是采用微影制程(lithography)制造的，其尺寸可精确到1微米，因此两个标记相差两个数量级，导致微光学透镜模仁和硅晶圆无法精确对准；另外，在制造微光学透镜时无法预知偏差到底有多大，只能在生产制造完毕之后根据硅晶圆上的产品分布测算出制造时的位置偏差，继而在下一次生产时将这种偏差考虑进去，以便尽可能将模仁和硅晶圆对准。但是这种方法显然带来较高的次品率，产品的合格率难以到达量产的要求。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种压印成型微光学透镜阵列的模仁以及微光学透镜阵列的制造方法。

一种微光学透镜阵列的制造方法，其包括以下步骤：提供一个模仁，该模仁具有第一表面，该第一表面具有采用微影制程制作的第一标记，以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二标记；测得该第二标记相对该第一标记的偏移量；提供一基板，该基板具有一个第二表面；于该第二表面采用微影制程制作第三标记，该第三标记在该第二表面的位置与该第一标记在该第一表面的位置相同；先将该第三标记与该第一标记对准；再根据该偏移量移动该基板以使该第三标记与该第二标记对准；于该模仁或该基板上施加成型材料，并压印成型该微光学透镜阵列。

一种模仁，其具有第一表面，该第一表面具有采用微影制程制作的第一标记，以及采用超精密加工方式制作的模穴及第二标记。

本发明提供的微光学透镜阵列的制造方法在一个模仁的表面制作两种标记，这两种标记的精确度不同，因此可以使基板上的对准标记与两种标记逐次对准，以达到提高对准精确度的目的。本发明提供的模仁的表面具有两种标记，这两种标记的精确度不同，因此可以使基板上的对准标记与两种标记逐次对准，以达到提高对准精确度的目的。

附图说明

图1是本发明第一实施例提供的形成有第一标记的一金属板的俯视图。

图2是图1的金属板进一步加工所形成的模仁的俯视图。

图3是本发明第一实施例提供的具有第三标记的基板的俯视图。

图4是本发明第一实施例提供的模仁与基板对准的效果图。

图5是本发明第二实施例提供的第三标记的放大示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。

请参阅图1，本发明第一个制造微光学透镜阵列的实施例首先提供一金属板10。该金属板10具有一个直径为8时的圆形第一表面12，在该第一表面12采用微影制程制作两个第一标记21。每个第一标记21呈“十”字形，理论上第一标记21可以位于该第一表面12的任意一个位置，两个第一标记21的相对位置关系也可以任意，但是优选地，两个第一标记21基本位于该第一表面12的中心，并且相对于该第一表面12的中心对称设置，这样的标记容易识别。

优选地，将采用微影制程制作的第一标记21的线宽控制在10微米至30微米即可。

当然，第一标记21的数量不限，除了本发明实施例所显示的两个，还可以是一个或者三个、四个等。

第一标记21的形状也不限，例如还可以是三角形、正方形等，只要可以起到标记的作用，便于识别和对准即可。

该第一标记21在黄光室中采用微影制程制作。

请参阅图2，接下来，将该金属板10置于超精密加工机台上进行加工以在第一表面12上制作模穴阵列14，该模穴阵列14包括多个模穴140，从而形成一模仁20。

一般地，利用超精密加工机台可在直径为8时的金属板10上制作上千个模穴140。