[发明专利]薄膜太阳能电池吸收层用硒化物材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910306793.9 申请日: 2009-09-09
公开(公告)号: CN101645473A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 谢元锋;黄小珂;吕宏;伍祥武;王玉民;陈进中;苏家红;何焕全;廖春图 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;柳州百韧特先进材料有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0216
代理公司: 柳州市荣久专利商标事务所(普通合伙) 代理人: 韦 微
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 太阳能电池 吸收 层用硒化物 材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种薄膜太阳能电池吸收层用硒化物材料的制备方法,所述的硒化物材料是Cu2Sex, In2Sey,Al2Se y,Ga2Se y,x的取值为0.95~1.05,y的取值为2.8~3.2,制备的材料状态为粉末或块体靶材。

背景技术

CuAlSe2, CuInSe2,Cu(InGa)Se2, Cu(AlGa)Se2作为光吸收层、具有抗辐射、性能稳定的特点,可以制备成成本较低的太阳能薄膜电池,适合民用,其制备方法目前比较成熟的方法一般采用先溅射后硒化(或硫化)工艺,这种方法不能保证薄膜成分和厚度的均匀性,而且硒化工艺涉及剧毒硒化物(或硫化物),在制备过程中对设备要求较高。为了简化工艺和降低成本,美国学者利用CuInGaSe靶材,通过一步溅射的方法制备了CIGS光吸收层(C.Suryanarayanaa,E.Ivanovb, R.Nou,M.A.Contrerasc,J.J.Moore Synthesis and processing of a Cu-In-Ga-Se sputtering target,Thin Solid Films,1998 v332. 340-344),这种工艺大大简化了制备流程,能够精确控制薄膜成分和厚度,使硒化工艺简化甚至取消。

清华大学张弓等人利用Cu2Se, In2Se3,Al2Se3,Ga2Se3粉末合成CuAlSe2, CuInSe2,Cu(InGa)Se2,Cu(AlGa)Se2靶材(张弓等 一种制备铜铟硒溅射靶材的工艺 专利公开号:CN 101333645A;庄大明等 铜铟镓硒或铜铟铝硒太阳能电池吸收层靶材及其制备方法 专利公开号:CN 101397647A),韩国学者利用Cu2Se, In2Se3,Cu2S,In2S3 靶材合成了CuInGaSSe薄膜。 (Kyoo-Ho Kim, Effect of Ga, S Additions in CulnSe2 for Solar Cell Applications, J Kor. Inst. Sur. Eng.  V58(4), 2004, P191-195),使用Cu2Se, In2Se3,Al2Se3,Ga2Se3靶材合成薄膜太阳能电池吸收层是个可行的方法。

因此,Cu2Se, In2Se3,Al2Se3,Ga2Se3粉末成为制备相应薄膜太阳能电池吸收层靶材的关键材料。Cu、In、Ga、Al、Se五个元素间的熔点、沸点、密度差异性很大(其熔点分别是1083.4℃、156.6℃、29.7℃、660.4℃和217℃;其沸点分别是2567℃、2080℃、2204℃、2467℃和684.9℃;其密度分别是8.96g/cm3、7.3g/cm3、5.9g/cm3、4.8g/cm3、2.7g/cm3),尤其是:硒的沸点不仅低(684.9℃),而且其在沸点时的蒸汽压很高(1×105Pa),合金制备过程中容易造成Se的大量挥发和Se在合金表面的漂浮,使其不能完全与合金融合,难以形成一体化合金;还有硒与Ga、In发生剧烈的化学反应,制备工艺设计不合理,容易造成设备的毁坏、环境的污染和硒的损失。因此,控制Se的挥发和Se在合金中的均匀分布,是难点也是关键。

发明内容

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京有色金属研究总院;柳州百韧特先进材料有限公司,未经北京有色金属研究总院;柳州百韧特先进材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910306793.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top