[发明专利]用以制造具有可辨识标记的基板的方法有效
申请号: | 200910309824.6 | 申请日: | 2009-11-16 |
公开(公告)号: | CN101726989A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 江佳铭;颜思琳;游辉钟 | 申请(专利权)人: | 华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L21/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350015 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用以 制造 具有 辨识 标记 方法 | ||
技术领域
本发明大体上是关于基板辨识的领域,更具体而言,是一种利用扫描式曝光以制造具有可辨识标记的基板的方法。
背景技术
随着笔记型计算机、显示器及电视等需求量不断提高,薄膜晶体管液晶显示器(Thin-Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)面板的出货量也随的增高,但面板的价格除了与供需有关之外,亦与其良率、经济切割尺寸等因素习习相关。
关于经济切割尺寸方面,为了节省成本,在面板制程中常会利用切裂基板的制程,其是将一尺寸较大的基板进行加工,之后进行切割以进一步制成复数个尺寸较小的面板,举例而言,可将一基板切割成四块,成为「1/4」切裂基板,如图1所示,以便在一次制程中能切割出四片TFT-LCD面板。在图一中,基板100可切割成110、120、130及140等四块尺寸较小的基板区域,因为受限于大型光罩的价格昂贵以及曝光机台的稼动率考虑,一般业界仅利用同一套光罩进行扫描式曝光,因此在上述四区域中利用光罩曝光形成的图案(Pattern)将完全相同,其图案可为如图一左上角放大显示的范例。在放大显示的区域110中,一般形成的图案可大致分为显示区域112(数组图案区域)及非显示区域114,亦有业者利用非显示区域114的位置形成辨识标记116,以提供譬如厂商、型号或其它等信息。
在上述设计中,基板区域110至140形成的四块「1/4」切裂基板具有相同的图案,亦即具有相同的辨识标记116,因此在切割后并无法分辨各个「1/4」切裂基板在原基板100上的分布位置。因此,当其中特定基板区域出现不良问题时,业者并无法有效追踪问题来源。
因此,在本发明的实施例中,在不增加硬件负担之下,仅利用同一套光罩进行扫描式曝光,即能在每个基板区域上皆产生不同的识别标记,提供先前技术中无法预期的功效。
发明内容
在本发明实施例的目的提供一种用以制造具有可辨识标记的基板的方法,包含:提供一基板;于所述基板上规划至少二基板区域;提供一光罩,所述光罩上四角落各包含预先形成的至少一光罩辨识标记,其中所述光罩的周边范围是大于所述基板的周边范围,且所述些光罩辨识标记包含至少二类型的光罩辨识标记;及利用所述光罩于所述至少二基板区域上分别执行曝光,以于所述至少二基板区域上形成对应至所述些光罩辨识标记的至少八基板辨识标记,并使所述至少八基板辨识标记中至少二基板辨识标记因重复曝光而消失,藉此,在所述至少二基板区域上分别形成有对应至所述至少二类型的光罩辨识标记的所述些基板辨识标记。
在本发明的较佳实施例中,所述些光罩辨识标记及所述些基板辨识标记包含文字、数字、符号或以上的组合。
在本发明的较佳实施例中,所述至少二基板区域可为直线排列或非直线排列。
在本发明的较佳实施例中,所述些光罩辨识标记于所述光罩上四角落可皆为相同、皆不相同或两两相同。
在本发明的较佳实施例中,所述基板可为薄膜晶体管(Thin-Film Transistor,TFT)基板、彩色滤光片(Color Filter,CF)基板或其它基板。
在本发明的较佳实施例中,更包含切割所述基板的步骤,使所述至少二基板区域分离。
关于本发明的详细实施例说明于下述实施方式,并配合图式说明,以俾利阅者可更加理解本发明的优点。
附图说明
【图式简单说明】
图1显示先前技术的切裂基板示意图;
图2A至H显示本发明实施例的切裂基板示意图;
图3A至E显示本发明实施例的切裂基板示意图;
图4A至E显示本发明实施例的切裂基板示意图;及
图5A至F显示本发明实施例的切裂基板示意图。
【主要组件符号说明】
100 基板
110、120、130、140 基板区域
112 显示区域
114 非显示区域
116 基板辨识标记
200 基板
210、220 基板区域
212 显示区域
214 非显示区域
222 显示区域
224 非显示区域
300 基板
310、320、330 基板区域
400 基板
410、420、430、440 基板区域
500 基板
510、520、530、540 基板区域
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司,未经华映光电股份有限公司;中华映管股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910309824.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可用于光束整形的金属槽缝结构
- 下一篇:机载护目镜型头盔显示器光学系统
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备