[发明专利]蒸镀装置

权利要求书

1.一种蒸镀装置，其用于对待镀膜基材进行镀膜；该蒸镀装置包括一外壳及一反应装置；所述外壳包括一内侧壁及一底壁，所述内侧壁设置有至少一工作区用于承载所述基材，所述底壁上开设有一轴孔；所述反应装置容置在外壳内并通过一转轴转动连接在轴孔内；反应装置包括外筒及容置在外筒中的内筒，外筒与内筒之间形成第一空间，内筒围成第二空间；所述第一空间内设置有用于放置膜料的坩埚及用于轰击膜料的电子枪，所述第二空间内设置有一离子源；所述外筒的外侧设置有多个与第一空间连通的第一喷口及与第二空间连通的第二喷口，从第一喷口喷出的气态膜料被从第二喷口喷出的氧化性离子气体氧化后附着于基材上。

2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述反应装置还包括一第一盖体及一第二盖体，所述第一盖体将内筒密封，所述第二盖体将外筒密封。

3.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述坩埚设置于所述底板上，所述电子枪固设于第二盖体上，且所述电子枪朝向于所述坩埚。

4.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀装置还包括一驱动装置，所述驱动装置与所述转轴相连接。

5.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述外筒包括依次相连的第一侧壁及第二侧壁；所述第一喷口位于第一侧壁上，所述第二喷口位于第二侧壁上。

6.如权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀装置还包括分别用于遮盖第一喷口和第二喷口的遮挡装置。

7.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述外壳还包括一固设于内侧壁上的承载板，所述承载板上开设有多个用于承载待镀膜基材的承载座。