[发明专利]镀膜装置无效
申请号: | 200910311051.5 | 申请日: | 2009-12-08 |
公开(公告)号: | CN102086508A | 公开(公告)日: | 2011-06-08 |
发明(设计)人: | 洪新钦 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 装置 | ||
1.一种镀膜装置,其包括一个旋转底盘、一个电压导入架、多个料杆及电刷模组,所述旋转底盘包括一个可旋转的转盘,所述电压导入架包括支杆及电压导入盘,所述支杆设置在所述转盘上,所述电压导入盘由所述支杆支撑并与所述转盘平行设置,所述料杆能够绕自身中心轴转动,用于挂设待镀工件,所述料杆围绕所述转盘旋转中心设置,其一端与所述转盘转动连接,另一端与所述电压导入盘转动连接,所述电刷模组与所述电压导入盘电连接,用于将电压通过所述电压导入盘直接传输到挂设在所述料杆上的待镀工件上。
2.如权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于:所述镀膜装置还包括一个溅镀室以及靶材,所述溅镀室包括底壁、顶壁及连接所述底壁和顶壁的侧壁。
3.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:所述溅镀室的侧壁上开设有与溅镀室相连通的进气管及抽气管,所述进气管用于供溅镀所需的反应气体进入到溅镀室内,所述抽气管用于对溅镀室进行抽真空处理。
4.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:所述转盘设置在所述溅镀室的底壁上,所述靶材设置在所述溅镀室的侧壁上,其为用于对待镀工件进行溅镀的溅射源。
5.如权利要求2所述的镀膜装置,其特征在于:所述电刷模组包括多个固定块、多个弹片及一个电压导入端,所述固定块固定在所述溅镀室的顶壁上,所述弹片一端固定在所述固定块上,另一端接触所述电压导入盘的表面,所述电压导入端固定在所述溅镀室的顶壁上,所述电压导入端通过一导线与所述弹片连接,以导入电压。
6.如权利要求1所述的镀膜装置,其特征在于:所述旋转底盘还包括一个转盘驱动马达及多个料杆驱动模组,所述转盘驱动马达与所述转盘连接,用于驱动所述转盘旋转,所述料杆驱动模组围绕所述转盘旋转中心设置在所述转盘中,其可随所述转盘旋转并同时驱动所述料杆相对所述转盘自转。
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