[发明专利]变色薄膜的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种变色薄膜的制备方法。

背景技术

目前，变色薄膜在各种领域得到广泛的应用，如应用于电子产品的外壳以使得电子产品的外壳的颜色能够随角度的变化而变化。当前，制造变色薄膜的方法主要是蒸镀。具体地，通过在基板上依次镀上多层高低折射率交替的膜层，因此在制程上比较复杂。而且若在镀膜的过程中其中一层膜的膜厚控制的不好，就会使薄膜的变色效果不佳。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种制备过程简单的变色薄膜的制备方法。

一种变色薄膜的制备方法，其包括如下步骤：提供一个基板；将所述基板放入真空镀膜腔内，在所述基板的表面镀上一层氮化膜；将镀膜后的基板从真空镀膜腔中取出，放入高温炉进行热裂解；将热裂解后的基板从高温炉中取出，进行冷却。

本发明的变色薄膜的制备方法，通过在所述基板上镀一层氮化膜之后，再添加一道高温热裂解的步骤，就可使所镀的氮化膜在不同的观察角度呈现不同的颜色，制备过程简单。

附图说明

图1是本发明较佳实施方式的变色薄膜的制备方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1，为本发明实施方式提供的一种变色薄膜的制备方法100，其包括如下步骤：

S1：提供一块基板。具体的，所述基板为不锈钢基板。

S2：将所述基板放入真空镀膜腔内采用直流磁控溅射方法进行溅镀，使所述基板的表面镀上一层氮化膜，比如TiN膜或者TiCN膜。具体的，所述真空镀膜腔内的真空压力为3×10^-3Torr(托，其中1Torr＝133.3Pa)，以钛(Ti)作为靶材，离子轰击源的功率是220V，电流是2~15A。真空溅镀的时间是1小时。若所述氮化膜为TiN膜，则所述TiN膜的厚度为400~600nm。以氩气(Ar)和氮气(N₂)的混合气体作为工作气体，所述氩气(Ar)与氮气(N₂)的比例可以为2∶1、5∶1或8∶1。若所述氮化膜为TiCN膜，则所述TiCN膜的厚度为300~400nm，以氩气(Ar)、氮气(N₂)及乙炔(C₂H₂)的混合气体作为工作气体，所述氩气(Ar)、氮气(N₂)及乙炔(C₂H₂)的比例为2∶1∶0.5。此时不论是从正面或侧面观察不锈钢基板上薄膜的颜色皆为深紫色。可以理解，也可以使用蒸镀的方法进行镀膜。

S3：将镀上薄膜的基板从真空镀膜腔中取出，放入高温炉，进行热裂解。具体的，高温炉中的温度为200~500℃，热裂解的时间为10分钟~2小时，压力为10^-2~10^-4Torr。优选的，高温炉中的温度为250℃，热裂解的时间为10分钟。

S4：将热裂解后的基板从高温炉中取出，进行冷却。此时，从正面看所述基板上薄膜的颜色为海洋蓝色，若将所述基板倾斜20~55度观测可看到整块基板又变成深紫色。

本发明的变色薄膜的制备方法，通过在所述基板上镀一层氮化膜之后，再添加一道高温热裂解的步骤，就可使所镀的氮化膜在不同的观察角度呈现不同的颜色，制备过程简单。

可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。