[实用新型]用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置有效
申请号: | 200920001753.9 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN201442977U | 公开(公告)日: | 2010-04-28 |
发明(设计)人: | 萨姆·H·金;朴范秀;威廉·N·斯特科 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/50 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 放置 pecvd 中的 背板 夹钳 机械 装置 | ||
本申请是申请日为2007年10月26日、申请号为200720195738.3且实用新型名称为“用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置”的实用新型专利申请的分案申请。
技术领域
本发明实施例主要涉及在大面积衬底上的电子器件制造中使用的设备以及相关腔硬件,并且更具体地,涉及在平板显示器和/或太阳电池阵列制造中使用的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)腔中设置的用于背板的夹钳机械装置。
背景技术
PECVD是通过激发工艺气体至等离子状态,用以在衬底上沉积材料的方法。在处理腔中,可提供工艺气体至喷头,该喷头放置在密封处理空间之内放置的温度控制衬底支撑装置之上。衬底支撑大面积衬底并且在该衬底上分离该处理气体以沉积材料形成电子器件,例如薄膜晶体管(TFT’s)、有机发光二极管(OLED’s)以及用在太阳能电池制造中的光电池。可提供负压至处理空间并且通过热能量、真空、射频(RF)功率以及它们的结合,分离工艺气体以形成等离子体。
处理腔的上部包括喷头和相关的硬件,例如与盖装置连接的背板。盖装置通常包括遮盖和处理气体入口,并且遮盖支持远程(remote)等离子单元。典型地,背板设置在喷头上并且设定为便于支持喷头。通常,背板的周界适合密封盖装置以形成处理空间的上边界。典型地,密封层包括提供中空密封并且又可促进电绝缘的聚合物或弹性体。典型地,传统夹钳装置用于将背板压紧到密封层上。典型地,传统夹钳装置设置在盖装置中,需要拆卸盖装置的一部分以使员工接近。
传统夹钳装置提供初始压力以在背板和盖装置之间形成初始真空密封。该初始真空密封由传统夹钳装置促进,并且该真空密封由应用至背板的真空辅助,该真空对背板提供额外的压力力。随着时间的过去,传统夹钳装置会变松,但是在不调整传统夹钳装置的情况下,初始真空密封会经历许多真空应用或处理周期。然而,随着时间的过去,初始真空会被破坏并且传统夹钳装置需要调整以恢复密封。在一种情况下,包括背板和传统夹钳装置的盖装置,为了进入内在部分为了清洁和维护目的,需要不时地移动,其破坏了初始密封。当再次装配时,背板不会如前放置以密封:例如,密封表面不对准或彼此不紧密接触。在另一个例子中,循环的真空应用和/或膨胀的/收缩的移动引起背板相对于密封表面移动,随着时间的过去,这将导致真空密封失效。
同样的,当真空密封被破坏时,需要进行夹钳的调整。由于传统的夹钳放置在盖装置中,至少需要移动部分盖装置以接近夹钳。盖装置的拆卸和移动导致工具长时间的的停工期,影响生产量。
如同已经表述的,在本技术领域需要改良的夹钳装置,以有效的促进PECVD腔中背板的真空密封同时易于接近以进行调整。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种用于放置在PECVD腔中的背板的夹钳机械装置,克服传统的夹钳装置的缺陷。传统的夹钳装置提供初始压力以在背板和盖装置之间形成初始真空密封。但是,传统的夹钳装置随着时间的过去会变松。为了进入内在部分进行清洁,覆盖该传统夹钳装置的盖装置需要被移开,这破坏了初始密封且因此需调整该夹钳装置以恢复密封。由于这些传统夹钳分布在盖装置内部,盖装置的拆卸和移动导致腔室长时间的停工期,并由此影响生产量。
在一个实施例中,本发明包括用于设置在等离子腔中的背板的夹钳装置,该夹钳装置包括固定连接到腔盖内部的上夹钳部分,与上夹钳部分以及背板滑动接触的下夹钳部分,其中下夹钳部分包括设置通过下夹钳部分和腔盖的至少一个连接件,所述至少一个连接件包含调节部件,并且其中调节部件的旋转引起横向移动和对背板的压力。
本实用新型的夹钳装置为腔室中的背板提供一个经改良的密封,而不需拆卸该腔室的部分以进行夹钳装置调整。因此,使用本实用新型的夹钳装置减少了停工期并增加了腔室的生产量。
附图说明
因此可详细理解本发明的上述引用特征的方式,可通过参考实施例得到以上概述的发明的更详细的描述,其中一些在附图中示出。值得注意的是,然而,附图仅是图示本发明的典型的实施例,并且因此不认为限于它的范围,因此发明容许其它等效实施例。
图1图示了PECVD腔示意性的横截面视图;
图2是依照本发明实施例的夹钳装置图;
图3图示了依照本发明实施例的夹钳装置横截面视图。
为便于理解,尽可能使用相同的参考数字来指示图中共有的相同元件。可以预期,实施例中公开的元件可有利于用于其它实施例,不需要详细表述。
具体实施方式
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的