[实用新型]一种计算埋入式导体深度的探测仪有效

专利信息
申请号: 200920007569.5 申请日: 2009-03-02
公开(公告)号: CN201607209U 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 约翰·马克果;理查德·戴维皮尔逊 申请(专利权)人: 雷迪有限公司
主分类号: G01B7/26 分类号: G01B7/26;G01V3/08
代理公司: 上海衡方知识产权代理有限公司 31234 代理人: 卞孜真
地址: 英国布里*** 国省代码: 英国;GB
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 计算 埋入 导体 深度 探测仪
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一个能计算埋入式导体深度的探测仪。

背景技术

在被掩埋的电缆、光纤电缆、或其他公用管道或管子处开始进行挖掘或其他工作之前,重要的是要确定这种掩埋电缆或者管道的位置,以确保它们在进行上述工作期间不被损坏。一旦埋地管道的深度被测定,安全的挖掘深度就可以被计算出来。

载流导体发出的电磁辐射可以被电子天线检测到。如果光纤电缆或非金属公用导管或管道匹配有微小的电子示踪线,交替电流可以被引导在所述示踪线上以辐射出电磁辐射。众所周知使用探测仪去检测传输交流电的导体所放射的电磁场。

其中一类探测仪的工作模式是以下两种之一,即:″主动″或″被动″模式。每个模式都有自己探测的频率波段。

被动模式包括“功率”模式和“无线”模式。在功率模式中,探测仪检测导体产生的磁场,该导体传输主要功率供应在50/60赫兹的交流电,或者来自于导体磁场的再次辐射,导致附近的电缆运输的AC功率和高次谐波达到5kHz。在无线模式中,探测仪检测到由埋入式导体再次辐射的低频(VLF)无线能源。原始的低频(VLF)无线信号的来源是很多商业和军事上的低频长波发射机

在主动模式中,一个信号发射机产生一公知频率和调制的交流磁场,并引导一电流出现在埋入式导体的附近。信号发射器可直接连接到导体,否则直接连通是不可能,一个信号发射器可放在靠近埋入式导体附近使得一信号可以引导至该导体。埋入式导体再次辐射的信号由信号发射器所产生。

本实用新型进一步发展了现有系统,去计算埋入的载流导体的深度,提供额外的功能,使用户获益更多。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于,提供一种计算埋入式导体的深度的探测仪,去计算埋入的载流导体的深度,提供额外的功能,使用户获益更多。

依照实用新型第一个方面,是提供了一个计算埋入式导体的深度的探测仪,探测仪包括:用来检测上述导体辐射的电磁场的多个天线;在所述天线探测范围的基础上计算上述导体深度的手段;以及当满足一个或多个预设标准时,显示计算出的上述导体深度的装置。

该探测仪进一步包括计算上述导体与探测仪的连线与垂直线之间θ角度的手段,其中所述标准是所述θ角在±10°内,最好是在±5°内,或者±2°之间。

该探测仪进一步包括计算在所述导体的轴与垂直于天线轴的平面之间的φ角度的手段,其中所述标准是所述φ角在±10°内,最好是在±5°之间,或者±2°之间。

该探测仪进一步包括计算在天线附近检测到的电磁场的二阶导数的手段,其中所述标准是二阶导数小于0.5°/S2,最好是少于0.2°/S2或者是0.1°/S2

该探测仪进一步包括计算深度计算的标准偏差涉及10赫兹带宽的手段,其中所述标准是深度计算的标准偏差小于5%,最好是小于2%或者是1%。

该探测仪可进一步包括模拟数字转换器ADC,具有由所述天线输出的数字信号的动态范围,其中所述标准是输入到ADC的信号在ADC的动态范围内。

该探测仪进一步包括计算在天线附近测得的场大小的一阶导数,其中所述标准是在天线附近测得的场大小的一阶导数小于每秒信号的5%,最好少于每秒信号的2%。

该探测仪可进一步包括去计算相关天线的相位,其中所述数值是天线之间的不同相位小于5°,最好少于2°或者1°。

依照实用新型的第2个方面,是提供一个载体中进行电脑可读的代码来控制微处理器去进行如上所述方法。

依照实用新型的第3个方面,是提供了一个计算埋入式导体的深度的探测仪,探测仪包括:多个天线,用来检测上述导体对电磁场的辐射,一个微处理器,配置在探测天线范围内的基础上去计算上述导体的深度,一个显示设备,当满足一个或多个所述标准时显示计算出的上述导体的深度。

其中所述微处理器进一步被配置去计算上述导体与探测仪的连线与垂直线之间θ角度的手段,其中所述标准是所述θ角在±10°内,更好的是在±5°内,以及在±2°内。

其中所述微处理器进一步被配置去计算在所述导体的轴与垂直于天线轴的平面之间的φ角度的手段,其中所述标准是所述φ角在±10°内,更好的是在±5°内,以及在±2°内。

其中所述微处理器进一步被配置去计算深度计算的标准偏差涉及10赫兹带宽的手段,其中所述标准是深度计算的标准偏差小于5%,更好的是小于2%,以及小于1%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于雷迪有限公司,未经雷迪有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200920007569.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top