[实用新型]真空显影机构无效
| 申请号： | 200920014335.3 | 申请日： | 2009-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN201444233U | 公开（公告）日： | 2010-04-28 |
| 发明（设计）人： | 宗润福;陈焱 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 显影 机构 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空显影机构，其特征在于：该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影腔体之间加有密封圈；承片台和承片台底部的主轴连接，主轴和显影腔体间装有密封圈，显影和清洗的喷头装在上盖上。
2.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于：喷头一端伸至上盖内侧，与承片台上的基片对应，喷头另一端连接供液管路。
3.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于：上盖外侧连接气缸，上盖的开合由气缸驱动。
4.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于：显影腔体接有排液管路、真空管路、氮气管路和大气管路，在各管路上分别设有阀门。
5.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于：基片通过真空吸附在承片台上，真空吸附的管路穿过主轴和承片台至基片底部。
6.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于：在显影时，该真空显影机构的显影腔体为真空腔体，显影工艺过程在真空环境下完成。
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