[实用新型]连续式平面磁控溅射镀膜设备无效
| 申请号： | 200920037425.4 | 申请日： | 2009-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN201343569Y | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | 冯新伟 | 申请（专利权）人： | 江苏津通先锋光电显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 213161江苏省常州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 连续 平面 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
1.一种连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：具有顺序排列连接的进片室(1)、前过渡室(2)、镀膜室(3)、后过渡室(4)和出片室(5)，进片室(1)和前过渡室(2)、前过渡室(2)和镀膜室(3)、镀膜室(3)和后过渡室(4)以及后过渡室(4)和出片室(5)之间分别设置有隔离阀门(6)，进片室(1)和出片室(5)上分别管道连接有第一真空机组(7)，前过渡室(2)和后过渡室(4)上分别管道连接有第二真空机组(8)，镀膜室(3)上管道连接有第三真空机组(9)。
2.根据权利要求1所述的连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：所述的镀膜室(3)包括顺序排列的五氧化二铌镀膜室(31)、二氧化硅镀膜室(32)和氧化铟锡镀膜室(33)，五氧化二铌镀膜室(31)和二氧化硅镀膜室(32)以及二氧化硅镀膜室(32)和氧化铟锡镀膜室(33)之间分别设置有隔离阀门(6)。
3.根据权利要求1所述的连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：所述的第一真空机组(7)包括通过管道连接的滑阀真空泵(71)、前级罗茨真空泵(72)和后级罗茨真空泵(73)，后级罗茨真空泵(73)通过真空阀(74)与进片室(1)或出片室(5)管道连接。
4.根据权利要求1所述的连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：所述的第二真空机组(8)包括通过管道连接的滑阀真空泵(71)、罗茨真空泵(81)和高真空泵，高真空泵与前过渡室(2)或后过渡室(4)管道连接。
5.根据权利要求1所述的连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：所述的第三真空机组(9)包括通过管道连接的滑阀真空泵(71)、前级罗茨真空泵(72)、后级罗茨真空泵(73)和高真空泵，高真空泵与镀膜室(3)管道连接。
6.根据权利要求4或5所述的连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：所述的高真空泵为涡轮分子泵(82)。
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